[發明專利]利用照射的器件圖案化

無效

• 申請號: 200580044619.1
• 申請日: 2005-12-29
• 公開（公告）號: CN101438430A
• 公開（公告）日: 2009-05-20
• 發明（設計）人: S·普拉卡什;N·特羅昂
• 申請（專利權）人: E.I.內穆爾杜邦公司
• 主分類號: H01L51/00
• 分類號: H01L51/00;H01L51/56;G03F7/20
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司
• 代理人: 朱黎明

1.一種在一層有機電子器件中形成圖案的方法，包括：

選擇性地照射所述層的一部分。

2.如權利要求1所述的方法，其特征在于，所述層不是活性層。

3.如權利要求1所述的方法，其特征在于，所述層中未被照射的部分仍保持 導電，從而形成由所述緩沖層的導電和不導電部分形成的圖案。

4.如權利要求1所述的方法，其特征在于，所述層的所述部分用紫外光照射。

5.如權利要求4所述的方法，其特征在于，還包括將掩模應用于所述層以阻 擋紫外光到達所述層中期望導電的部分。

6.如權利要求1所述的方法，其特征在于，還包括：

將聚合物層沉積到所述層上；以及

通過掩模進行陰極沉積，所述掩模圍繞期望導電的至少一個特征部。

7.如權利要求6所述的方法，其特征在于，還包括將觸點和引線沉積到所述 聚合物層上。

8.如權利要求1所述的方法，其特征在于，所述氣氛包括空氣。

9.一種在有機電子器件中形成圖案的系統，包括：

一層所述有機電子器件；以及

用于選擇性照射所述層的一部分的光源，所述選擇性照射的部分在照射后變 得不導電。

10.如權利要求9所述的系統，其特征在于，所述光源形成由所述層的導電 部分和不導電部分形成的圖案。

11.如權利要求9所述的系統，其特征在于，所述光源是紫外光源。

12.如權利要求11所述的系統，其特征在于，所述紫外光源是激光器。

13.如權利要求11所述的系統，其特征在于，所述紫外光源是紫外光燈泡。

14.如權利要求9所述的系統，其特征在于，還包括用于阻擋所述照射到達 所述層中期望發光的部分的掩模。

15.一種有機電子器件，包括：

緩沖層，所述緩沖層具有導電部分和不導電部分，且所述緩沖層的不導電部 分經過紫外光照射。

16.如權利要求15所述的器件，其特征在于，一層聚合物層被沉積到所述緩 沖層上。

17.如權利要求15所述的器件，其特征在于，所述緩沖層是(聚(3，4-亞乙基二 氧噻吩)聚(苯乙烯磺酸鹽))。

18.一種包括如權利要求15所述的有機電子器件的組合件。

19.一種包括如權利要求15所述的有機電子器件的具有活性層的有機電子器 件。

20.一種用于制造包括如權利要求15所述的有機電子器件的有機電子器件的 制品。