[發(fā)明專利]純化羥基羧酸的方法、制備環(huán)酯的方法以及制備聚羥基羧酸的方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200580043113.9 | 申請日： | 2005-10-17 |
| 公開（公告）號： | CN101080378A | 公開（公告）日： | 2007-11-28 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 小川知幸;星智廣;櫛田勉;大田原健太郎 | 申請（專利權(quán)）人： | 株式會社吳羽 |
| 主分類號： | C07C51/43 | 分類號： | C07C51/43;C07C59/06;C07D319/12;C08G63/78;C08L101/16 |
| 代理公司： | 北京市中咨律師事務(wù)所 | 代理人： | 林柏楠;劉金輝 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 純化 羥基 羧酸 方法 制備 以及 | ||
1.一種純化羥基羧酸的連續(xù)方法，其包括：將羥基羧酸水溶液進行結(jié)晶純化的結(jié)晶步驟、從濾液中分離羥基羧酸晶體的分離步驟、和用洗液洗滌所述羥基羧酸晶體以進一步純化的洗滌步驟，其中所述洗液為起始羥基羧酸水溶液，將與所述羥基羧酸晶體分離的一部分濾液排出系統(tǒng)，和將洗滌所述羥基羧酸晶體之后的洗滌濾液作為待進行所述結(jié)晶步驟的所述羥基羧酸水溶液再循環(huán)，
其中羥基羧酸在起始羥基羧酸水溶液中的濃度低于在飽和溶液中的濃度，并且其中起始羥基羧酸水溶液以原樣使用或在濃縮形成飽和羥基乙酸水溶液之后使用。
2.根據(jù)權(quán)利要求1的方法，其中通過使用具有洗滌機構(gòu)的固-液分離器進行所述洗滌步驟。
3.根據(jù)權(quán)利要求2的方法，其中所述固-液分離器為離心機。
4.根據(jù)權(quán)利要求1～3中任一項的方法，其中在所述結(jié)晶步驟之前冷卻所述羥基羧酸水溶液。
5.根據(jù)權(quán)利要求1的方法，其中所述經(jīng)歷結(jié)晶步驟的羥基羧酸水溶液具有最大80wt.％的羥基羧酸濃度。
6.根據(jù)權(quán)利要求5的方法，其中所述經(jīng)歷結(jié)晶步驟的羥基羧酸水溶液具有65～75wt.％的羥基羧酸濃度。
7.根據(jù)權(quán)利要求1的方法，其中所述羥基羧酸為羥基乙酸。
8.根據(jù)權(quán)利要求5～7中任一項的方法，其進一步包括將所述羥基羧酸水溶液濃縮至羥基羧酸濃度為最大80wt.％的步驟。
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