[發明專利]用于檢測光管理膜的系統和方法以及制造光管理膜的方法無效
| 申請號: | 200580040640.4 | 申請日: | 2005-09-19 |
| 公開(公告)號: | CN101065657A | 公開(公告)日: | 2007-10-31 |
| 發明(設計)人: | K·P·卡帕爾多;Y·胡;C·楊;Y·張 | 申請(專利權)人: | 通用電氣公司 |
| 主分類號: | G01N21/958 | 分類號: | G01N21/958;G01N21/88;G01M11/00 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 段曉玲;趙蘇林 |
| 地址: | 美國*** | 國省代碼: | 美國;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 檢測 管理 系統 方法 以及 制造 | ||
1.一種檢測光管理膜的方法,所述方法包括:
將來自于頭頂光源的光從光管理膜的第一面反射出并檢測所述光管理膜的缺陷;
引導來自于背光光源的透射光通過所述光管理膜的第二面到達第一面并檢測所述光管理膜的缺陷;
將來自于所述頭頂光源的光從所述光管理膜的第二面反射出并檢測所述光管理膜的缺陷;
引導來自于所述背光光源的透射光通過所述光管理膜的第一面到達第二面并檢測所述光管理膜的缺陷;以及
測量各測得缺陷在光管理膜中的位置。
2.權利要求1的方法,其中檢測所述光管理膜包括在光管理膜的水平方向和光管理膜的深度方向中的每一方向上以大約0°到大約90°的視角檢察所述光管理膜。
3.權利要求1的方法,進一步包括對每個檢測出的缺陷進行分類。
4.權利要求3的方法,進一步包括將所述分類缺陷與預定的缺陷集合進行對比以確定所述缺陷的成因。
5.權利要求1的方法,其中所述光管理膜包括設置在所述光管理膜第一表面上的光改向結構。
6.一種用于檢測光管理膜的系統,所述系統包括:
具有第一板表面和第二板表面的工作板;
設置得接近于所述第二板表面并與所述工作板光學連接的背光光源,其中所述背光光源能夠用作透射光源使得透射光可透過所述第二板表面到達第一板表面;以及
設置得接近于所述第一板表面的頭頂光源,其中所述頭頂光源和背光光源設置在所述工作板的相反側,并且其中所述頭頂光源能夠用作反射光源,使得當所述光管理膜設置成與所述第一板表面物理連接時反射光可從所述光管理膜上反射出。
7.權利要求6的系統,其中所述工作板包括光漫射性質。
8.權利要求6的系統,其中所述工作板包括刻度。
9.權利要求6的系統,進一步包括設置成與所述頭頂光源光學連接的頭頂光漫射膜。
10.權利要求6的系統,進一步包括設置成與工作板物理連接的工作板支持物。
11.一種制造光管理膜的方法,所述方法包括:
形成含有設置在所述光管理膜表面上的光改向結構的光管理膜;
檢測所述光管理膜,其中檢測過程包括:
將來自頭頂光源的光從所述光管理膜第一面反射出并檢測所述光管理膜的缺陷;
引導來自于背光光源的透射光通過所述光管理膜的第二面到達第一面,并檢測所述光管理膜的缺陷;
將來自于所述頭頂光源的光從所述光管理膜的第二面反射出并檢測所述光管理膜的缺陷;
引導來自于所述背光光源的透射光通過所述光管理膜的第一面到達第二面,并檢測所述光管理膜的缺陷;以及
測量各測得缺陷在光管理膜中的位置;
將所述測得缺陷分類;
將所述分類的缺陷與預定的缺陷集合相比較以確定所述缺陷的成因;以及
根據所述分類缺陷與預定缺陷集合的比較結果來改變形成所述光管理膜的工藝條件。
12.權利要求11的方法,其中檢測所述光管理膜包括在光管理膜的水平方向和光管理膜的深度方向中的每一方向上以大約0°到大約90°的視角觀察所述光管理膜。
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