[發明專利]氣體阻擋性層疊薄膜有效
| 申請號: | 200580040598.6 | 申請日: | 2005-09-27 |
| 公開(公告)號: | CN101065240A | 公開(公告)日: | 2007-10-31 |
| 發明(設計)人: | 鈴木浩;松尾龍吉;佐佐木昇 | 申請(專利權)人: | 凸版印刷株式會社 |
| 主分類號: | B32B9/00 | 分類號: | B32B9/00;B32B27/36;B32B27/30 |
| 代理公司: | 永新專利商標代理有限公司 | 代理人: | 陳建全 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 氣體 阻擋 層疊 薄膜 | ||
技術領域
本發明涉及在食品、藥品等包裝領域中使用的氣體阻擋性層疊薄 膜。
背景技術
近年來,在食品、藥品等包裝中使用的包裝材料為了抑制內含物 的變質、維持性能,必須防止由于透過包裝材料的氧氣、水蒸氣、以 及其他使內含物變質的氣體所產生的影響,要求具有遮斷這些氣體透 過的氣體阻擋性。
例如,在食品中,為了抑制蛋白質和油脂等的氧化、變質,進而 保持味道和新鮮度,此外,在必須在無菌狀態下處理的藥品中,為了 抑制有效成分的變質,維持功效,在這些產品的包裝材料中要求氣體 阻擋性。
因此,迄今為止,通常使用將聚乙烯醇(PVA)、乙烯-乙烯醇共 聚物(EVOH)或聚偏氯乙烯樹脂(PVDC)等通常氣體阻擋性較高的 高分子樹脂組合物層壓或涂布而成的氣體阻擋性層疊薄膜作為包裝薄 膜。此外,開發了在單獨使用的情況下沒有高氣體阻擋性的高分子樹 脂組合物上蒸鍍鋁(Al)等金屬或金屬化合物的金屬蒸鍍薄膜,最近 還開發了在由具有透明性的高分子材料構成的基材上蒸鍍一氧化硅 (SiO)等硅氧化物(SiOx)薄膜、氧化鎂(MgO)薄膜的蒸鍍薄膜。 這些薄膜與單獨由高分子樹脂組合物構成的氣體阻擋性材料相比,具 有優異的氣體阻擋性,且在高濕度下的劣化也較少,因此通常已經開 始使用由這些包裝材料構成的包裝薄膜。
但是,使用了上述PVA、EVOH類高分子樹脂組合物的氣體阻擋 性層疊薄膜的溫度依賴性和濕度依賴性大,因此在高溫或高濕下發現 氣體阻擋性降低,尤其是水蒸氣阻擋性降低,根據包裝的用途不同, 如果進行煮沸處理或甄(retort)處理,則氣體阻擋性有時會顯著降低。
此外,使用了PVDC類高分子樹脂組合物的氣體阻擋性層疊薄膜 雖然濕度依賴性小,但難以實現具有1cm3/m2·day·atm以下的氧氣 阻擋性的高氣體阻擋材料(high?gas?barrier材料)。此外,由于PVDC 類高分子樹脂組合物含有大量氯,因此在焚燒處理或再循環等廢棄物 處理的方面存在問題。
此外,使用上述蒸鍍了金屬或金屬化合物的金屬蒸鍍膜或蒸鍍了 一氧化硅(SiO)等硅氧化物(SiOx)薄膜、氧化鎂(MgO)薄膜的 蒸鍍薄膜作為氣體阻擋層的無機化合物的薄膜在可撓性上欠缺,在揉 搓或彎折方面較弱,此外,與基材的粘附性弱,因此在處理中需要注 意,尤其是在印刷、層壓、制袋等包裝材料的后加工時存在產生裂縫、 氣體阻擋性顯著降低這樣的問題。
此外,作為形成方法,使用真空蒸鍍法、濺射法、等離子體化學 氣相沉積法等真空處理,因此裝置昂貴,此外,有時在形成工序中形 成局部高溫,在基材中會產生損傷,由于低分子量或增塑劑等添加劑 部分等的分解、脫氣等而在無機薄膜中產生缺陷、針孔等,具有無法 實現高氣體阻擋性、此外成本較高這樣的問題。
針對如上問題,如特開昭62-295931號公報所述,提出了在基材 上形成金屬烷氧化物覆膜的氣體阻擋材料。該氣體阻擋性材料具有一 定程度的可撓性,且由于可以通過液相涂布法制造,因此價格也可以 較便宜。
然而,上述氣體阻擋材料與基材單體的情況相比,雖然氣體阻擋 性有了一定提高,但還不能稱為具有充分的氣體阻擋性。
發明內容
因此,本發明的目的是提供一種氣體阻擋性優異,而且可撓性也 優異,在薄膜伸長時也可以抑制降低氣體阻擋性劣化的氣體阻擋性層 疊薄膜。
根據本發明的一個方式,提供了一種氣體阻擋性層疊薄膜,其具 有高分子薄膜基材、在該高分子薄膜基材的一個面上形成的氣體阻擋 性無機蒸鍍層、和在該氣體阻擋性無機蒸鍍層上形成的氣體阻擋性被 覆層;其特征在于,具有下述這樣的氧氣阻擋性:在層疊薄膜伸長了 5%時的氧氣透過率是伸長前的氧氣透過率的1.5倍以下。
本發明的一個方式中的氣體阻擋性層疊薄膜具有下述這樣的水蒸 氣阻擋性:在層疊薄膜伸長了2%時的水蒸氣透過率是伸長前的水蒸 氣透過率的1.5倍以下。
作為高分子薄膜基材,可以使用聚對苯二甲酸乙二酯。
作為氣體阻擋性被覆層,可以使用以具有羥基的水性高分子為主 成分的被覆層。作為水性高分子,可以使用包含選自聚乙烯醇、乙烯 -乙烯醇共聚物以及纖維素中的至少1種的高分子。
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