[發明專利]硫酸循環型清洗系統以及硫酸循環型過硫酸供給裝置有效
| 申請號: | 200580039376.2 | 申請日: | 2005-09-14 |
| 公開(公告)號: | CN101061261A | 公開(公告)日: | 2007-10-24 |
| 發明(設計)人: | 永井達夫;池宮范人;山川晴義;小林秀樹;森田博志 | 申請(專利權)人: | 栗田工業株式會社 |
| 主分類號: | C25D1/22 | 分類號: | C25D1/22;C25B1/28;B08B3/08;H01L21/304 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 孫秀武;李炳愛 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 硫酸 循環 清洗 系統 以及 供給 裝置 | ||
1.硫酸循環型清洗系統,其特征在于:該系統具備以過硫酸溶液作為清洗液,清洗被清洗材料的清洗裝置;通過電解反應由溶液中所含的硫酸離子生成過硫酸離子,再生過硫酸溶液的電解反應裝置;使上述過硫酸溶液在上述清洗裝置和電解反應裝置之間循環的循環線路;和對上述過硫酸溶液補給超純水或過氧化氫水而抑制硫酸濃度上升的超純水或過氧化氫水補給線路。
2.權利要求1的硫酸循環型清洗系統,其特征在于:將在上述電解反應裝置中電解的溶液的溫度保持在比上述清洗液的溫度低的溫度。
3.權利要求1的硫酸循環型清洗系統,其特征在于:在上述電解反應裝置中電解的溶液的溫度在10℃-90℃的范圍。
4.權利要求1-3中任一項的硫酸循環型清洗系統,其特征在于:該系統具備將上述清洗液進行加熱的加熱裝置。
5.權利要求1-3中任一項的硫酸循環型清洗系統,其特征在于:該系統具備將在上述電解反應裝置中電解的溶液進行冷卻的冷卻裝置。
6.權利要求4的硫酸循環型清洗系統,其特征在于:該系統具備將在上述電解反應裝置中電解的溶液進行冷卻的冷卻裝置。
7.權利要求1-3中任一項的硫酸循環型清洗系統,其特征在于:該系統具有熱交換裝置,該熱交換裝置是在上述循環線路中,由上述電解反應裝置產生的相對較低溫的過硫酸溶液的傳送液和由上述清洗裝置產生的相對高溫的過硫酸溶液的返回液之間進行熱交換。
8.權利要求1的硫酸循環型清洗系統,其特征在于:上述循環線路中的通路含有石英或四氟乙烯。
9.權利要求1的硫酸循環型清洗系統,其特征在于:該系統具有將通過上述清洗而從被清洗材料除去的除去物進行分解的分解部。
10.權利要求1的硫酸循環型清洗系統,其特征在于:在上述電解裝置中電解的溶液的硫酸濃度為8M-18M。
11.權利要求1的硫酸循環型清洗系統,其特征在于:電解反應裝置所具備的電極中,至少陽極為導電性金剛石電極。
12.權利要求11的硫酸循環型清洗系統,其特征在于:電解反應裝置所具備的導電性金剛石電極是層合在基板上,然后除去基板得到的自立型導電性金剛石電極。
13.權利要求1的硫酸循環型清洗系統,其特征在于:上述被清洗材料是半導體基板。
14.權利要求1的硫酸循環型清洗系統,其特征在于:進行電解控制,使得上述電解裝置中過硫酸生成速度和上述清洗裝置中有機污染物的總有機性碳濃度(TOC)生成速度的比(過硫酸生成速度[g/l/hr])/(清洗池內TOC生成速度[g/l/hr])在10-500。
15.權利要求1的硫酸循環型清洗系統,其特征在于:上述超純水或過氧化氫水補給線路設計成在清洗裝置的清洗池底部一側注入超純水或過氧化氫水。
16.權利要求1或15的硫酸循環型清洗系統,其特征在于:該系統具有測定上述溶液的硫酸濃度的硫酸濃度測定裝置,根據該硫酸濃度測定裝置得到的測定濃度,可以控制上述超純水或過氧化氫水補給線路的注入動作。
17.權利要求16的硫酸循環型清洗系統,其特征在于:通過上述硫酸濃度測定裝置得到的測定濃度如果比預先規定的設定濃度高0.2M以上,則通過上述超純水或過氧化氫水補給線路進行超純水或過氧化氫水的注入。
18.權利要求16的硫酸循環型清洗系統,其特征在于:上述硫酸濃度測定裝置是通過吸光度法測定硫酸濃度的。
19.權利要求1或15的硫酸循環型清洗系統,其特征在于:該系統具有測定上述清洗裝置的清洗池中的清洗液量的液體量測定裝置,根據該液體量測定裝置的測定結果,控制上述超純水或過氧化氫水補給線路的注入動作。
20.權利要求1或15的硫酸循環型清洗系統,其特征在于:該系統具有測定上述清洗裝置的清洗池中清洗液的液面高度的液面高度測定裝置,根據該液面高度測定裝置的測定結果,控制上述超純水或過氧化氫水補給線路的注入動作。
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