[發明專利]無機細粒分散液及其制備方法和使用該無機細粒分散液的噴墨記錄介質有效
| 申請號: | 200580038633.0 | 申請日: | 2005-11-11 |
| 公開(公告)號: | CN101056823A | 公開(公告)日: | 2007-10-17 |
| 發明(設計)人: | 遠藤俊明;永田幸三 | 申請(專利權)人: | 富士膠片株式會社 |
| 主分類號: | C01B33/141 | 分類號: | C01B33/141;B41M5/00 |
| 代理公司: | 中科專利商標代理有限責任公司 | 代理人: | 陳平 |
| 地址: | 日本國*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 無機 細粒 分散 及其 制備 方法 使用 噴墨 記錄 介質 | ||
技術領域
本發明涉及一種具有優良的長期穩定性的無機細粒分散液,制備該無機細粒分散液的方法和噴墨記錄介質。具體而言,本發明涉及一種噴墨記錄介質,該噴墨記錄介質具有高光澤,高圖像密度和受到抑制的長時間后的圖像的滲墨(bleeding)。
背景技術
通常通過將用于油墨接受層的涂布液涂布在載體接著進行加熱,制備噴墨記錄介質。制備用于油墨接受層的涂布液的公知方法是將親水性粘合劑(如聚乙烯醇)和其它添加劑(如陽離子聚合物、硬化劑和表面活性劑)的水溶液加入到無機細粒如二氧化硅細粒的分散液中的方法。
無機細粒優選是無機顏料細粒,其實例包括二氧化硅細粒、膠體二氧化硅、二氧化鈦、硫酸鋇、硅酸鈣、沸石、高嶺土、多水高嶺土、云母、滑石、碳酸鈣、碳酸鎂、硫酸鈣、氧化鋁、勃姆石和假勃姆石。從吸墨性和高色彩密度考慮,優選二氧化硅細粒。
二氧化硅分散液中含有的二氧化硅優選是通過在氧氫焰中燃燒作為原料的四氯化硅而制備的氣相法二氧化硅(熱解法二氧化硅),或者濕法二氧化硅(例如,通過中和硅酸鈉獲得的沉淀二氧化硅或凝膠法二氧化硅),或者通過在含堿性或酸性水的有機溶劑中水解作為原料的硅的醇鹽獲得的溶膠-凝膠法二氧化硅。使用這些二氧化硅的二氧化硅分散液已經引起了人們的注意。
在噴墨記錄介質領域中,需要具有光澤、色飽和度和吸墨性高的照片似的介質。為了制備具有這樣的特性的噴墨記錄介質,優選使用平均初級粒子直徑為50nm或更小的非常細的粒子,并且優選使用氣相法二氧化硅或氧化鋁溶膠。例如,在例如以下文件中已經提出了這樣的記錄材料,其是通過在紙載體上涂布二氧化硅細粒和親水性粘合劑而制備的:日本專利申請公開(JP-A)Nos.55-51583、56-157、57-107879、57-107880、59-230787、62-160277、62-184879、62-183382和64-11877。
例如,在以下文件中,已經提出了使用通過氣相法制備的合成二氧化硅細粒(以下稱作″氣相法二氧化硅″)的噴墨記錄介質:日本專利公布(JP-B)No.3-56552以及JP-A?Nos.2-188287、10-20306、10-81064、10-100397、10-119423和10-203006。
然而,非常細的粒子的分散液的缺點在于:其分散穩定性差并且細粒容易聚集。特別是在用于噴墨記錄介質油墨接受層的涂布液中使用無機細粒的分散液時,無機細粒由于較差的分散穩定性而更容易聚集。結果,產生問題,如墨排斥或條紋-狀涂布缺陷的產生和吸墨性下降。
在噴墨記錄介質中使用金屬以提高圖像穩定性是已知的。例如,已經報道了堿性聚氫氧化鋁(polyaluminum?hydroxide)的使用(例如在JP-A?Nos.60-257286和61-16884中)。此外,在JP-A?Nos.6-32064、10-258567、10-309862和2000-309157中描述了元素周期表的第4A族元素和鋁化合物的使用.然而,這些專利文件沒有教導在金屬化合物的存在下,無機細粒的分散.
通常,二氧化硅分散液的制備方法如下:在分散介質(水、有機溶劑或選自水和有機溶劑中的液體的混合物)中,對無機細粒進行首次分散(預混合)以形成無機細粒淤漿,然后通過分散機如砂磨機或球磨機對無機細粒淤漿進行二次分散。
然而,使用分散機如球磨機或砂磨機制備的二氧化硅分散液的粒度大,并且二氧化硅分散液的透明度低。因此,使用這種二氧化硅分散液制備的噴墨記錄介質的光澤不令人滿意。
此外,氣相法二氧化硅的分散穩定性較差。這是因為氣相法二氧化硅在其表面上只有少量的硅烷醇基團。盡管使用陽離子聚合物來提高墨(染料)固定性是已知的,通過二氧化硅分散液和陽離子聚合物的混合,二氧化硅細粒聚集。針對此問題,已經公開了在陽離子聚合物存在下分散二氧化硅細粒以提高二氧化硅細粒的分散穩定性的技術(例如在JP-A?Nos.11-20306、11-105411、11-321079和2001-19421中)。
發明內容
本發明的一個目的是提供一種噴墨記錄介質,其具有高光澤、高色密度、改善的長時間后滲墨和優良的耐氣性(gas?resistance)。
考慮到常規技術的上述問題,本發明的發明人進行了深入細致的研究。結果,本發明人發現可以采用高壓分散,通過霧化二氧化硅粒子達到所述目的,從而本發明人完成了本發明。
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