[發(fā)明專利]無機(jī)細(xì)粒分散液及其制備方法和使用該無機(jī)細(xì)粒分散液的噴墨記錄介質(zhì)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200580038633.0
• 申請(qǐng)日: 2005-11-11
• 公開（公告）號(hào): CN101056823A
• 公開（公告）日: 2007-10-17
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 遠(yuǎn)藤俊明;永田幸三
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 富士膠片株式會(huì)社
• 主分類號(hào): C01B33/141
• 分類號(hào): C01B33/141;B41M5/00
• 代理公司: 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司
• 代理人: 陳平

1.一種制備無機(jī)細(xì)粒分散液的方法，所述方法包括通過正面碰撞高壓分散機(jī)或銳孔通過型高壓分散機(jī)，對(duì)包含水溶性有機(jī)陽(yáng)離子化合物、水溶性多價(jià)金屬化合物和無機(jī)細(xì)粒的分散液進(jìn)行分散處理，

其中所述水溶性有機(jī)陽(yáng)離子化合物為含有選自伯氨基、仲氨基、叔氨基、季銨堿基或鏻堿基的基團(tuán)的化合物；

所述水溶性多價(jià)金屬化合物為三價(jià)或更高價(jià)的金屬化合物；

所述無機(jī)細(xì)粒為二氧化硅細(xì)粒，并且

其中所述正面碰撞高壓分散機(jī)的處理壓力大于等于50MPa且小于等于350MPa；

所述銳孔通過型高壓分散機(jī)的銳孔的入口側(cè)的壓力和所述銳孔通過型高壓分散機(jī)的銳孔的出口側(cè)的壓力之差大于等于50MPa且小于等于350MPa。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備無機(jī)細(xì)粒分散液的方法，其中所述無機(jī)細(xì)粒的平均初級(jí)粒子直徑為30nm或更小，并且所述分散處理后的無機(jī)粒子的平均次級(jí)粒子直徑為200nm或更小。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備無機(jī)細(xì)粒分散液的方法，其中所述無機(jī)細(xì)粒是氣相法二氧化硅粒子。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備無機(jī)細(xì)粒分散液的方法，其中所述無機(jī)細(xì)粒根據(jù)BET法的比表面積為大于等于200m²/g?200m²/g且小于等于400m²/g。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備無機(jī)細(xì)粒分散液的方法，其中所述三價(jià)或更高價(jià)的金屬化合物是水溶性鋁化合物和/或水溶性鋯化合物。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備無機(jī)細(xì)粒分散液的方法，其中所述水溶性有機(jī)陽(yáng)離子化合物是含有選自伯氨基、仲氨基、叔氨基、季銨堿基和鏻堿基中的基團(tuán)的化合物。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備無機(jī)細(xì)粒分散液的方法，其中所述水溶性多價(jià)金屬化合物包括選自乙酸氧鋯，碳酸氧鋯銨和堿性聚氫氧化鋁中的至少一種化合物。

8.一種無機(jī)細(xì)粒分散液，其中所述無機(jī)細(xì)粒分散液是采用根據(jù)權(quán)利要求1至7中任一項(xiàng)所述的制備無機(jī)細(xì)粒分散液的方法制備的。

9.一種噴墨記錄介質(zhì)，其包含通過涂覆包含權(quán)利要求8所述的無機(jī)細(xì)粒分散液的涂布液而制備的油墨接受層。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的噴墨記錄介質(zhì)，其中所述涂布液還包括水溶性樹脂、交聯(lián)劑和表面活性劑。

11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的噴墨記錄介質(zhì)，其中所述涂布液還包括水溶性樹脂、交聯(lián)劑、表面活性劑、沸點(diǎn)為150℃或更高的水溶性有機(jī)溶劑，和水分散性陽(yáng)離子樹脂。

12.根據(jù)權(quán)利要求10所述的噴墨記錄介質(zhì)，其中所述水溶性樹脂是聚乙烯醇-基樹脂。

13.根據(jù)權(quán)利要求11所述的噴墨記錄介質(zhì)，其中將所述水溶性樹脂、表面活性劑和沸點(diǎn)為150℃或更高的水溶性有機(jī)溶劑在加入到所述的涂布液中之前溶解在水溶液中。

14.根據(jù)權(quán)利要求10所述的噴墨記錄介質(zhì)，其中所述交聯(lián)劑是硼酸。

15.根據(jù)權(quán)利要求10所述的噴墨記錄介質(zhì)，其包含水分散性陽(yáng)離子樹脂，其中所述水分散性陽(yáng)離子樹脂是聚氨酯樹脂。