[發(fā)明專利]熒光X射線分析裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200580037929.0
• 申請日: 2005-10-26
• 公開（公告）號: CN101052870A
• 公開（公告）日: 2007-10-10
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 的場吉毅;深井隆行;高橋正則;一宮豐
• 申請（專利權(quán)）人: 精工電子納米科技有限公司
• 主分類號: G01N23/223
• 分類號: G01N23/223
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司
• 代理人: 崔幼平

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種對測定試樣照射一次X射線、誘發(fā)來自測定試樣 的熒光X射線，并對該熒光X射線的能級和X射線強(qiáng)度進(jìn)行測定，從 而進(jìn)行試樣的元素分析/組成分析的熒光X射線分析裝置。

背景技術(shù)

采用圖2說明以往通常的熒光X射線分析裝置。隔著水平的測定 試樣基臺23，將測定試樣25配置于上述測定試樣基臺23上方，將X 射線源21、一次濾光器22、X射線檢測器27配置于上述測定試樣基臺 23下方，一次X射線24的照射位置和檢測熒光X射線26的X射線檢 測器27所朝向的位置是同一點(diǎn)。此外，通常是通過使上述X射線檢測 器和X射線射線源21盡可能地接近測定試樣，從而提高注目的來自重 金屬的熒光X射線的靈敏度。此外，還存在為了提高其注目元素的熒 光X射線26的峰值強(qiáng)度與主要由散射線引起的背景強(qiáng)度之比(以下稱 為峰背比)而加入一次濾光器22、或使用二次目標(biāo)板這種使用了使X 射線單色化的光學(xué)元件、使X射線聚光的光學(xué)元件的裝置，但做成上 述X射線檢測器朝向所有照射一次X射線的點(diǎn)的構(gòu)造(例如參照日本 特開2004-150990號公報(第3頁、圖1))。

在以往的熒光X射線分析裝置中，在確認(rèn)由C、O、H等構(gòu)成的輕 元素主成分中所含有的鎘等微量重金屬的存在、濃度時，通常使用上 述一次濾光器來提高峰背比。本方法非常有效，但由于插入上述一次 濾光器，一次X射線衰減，結(jié)果在測定試樣被激勵的微量重金屬的熒 光X射線入射到X射線檢測器的強(qiáng)度較小。為了增大入射到上述X射 線檢測器的X射線強(qiáng)度，接近測定試樣地配置上述X射線源及上述X 射線檢測器，但由于二者朝向同一點(diǎn)配置，若相接近則二者構(gòu)造物發(fā) 生干涉，所以相接近的距離有限度。因此，在測定輕金屬中的微量重 金屬時，通常，檢測下限是在數(shù)百秒測定下為數(shù)wt?ppm。

為了提高微量重金屬的檢測極限，峰背比也是重要的因數(shù)，能夠 獲取的X射線強(qiáng)度的大小、換言之靈敏度也是重要的因數(shù)。以下記述 檢出極限的通常的計算式。若增加X射線強(qiáng)度，則與其成比例地BG 強(qiáng)度(背景強(qiáng)度)和靈敏度增加。即，由下式可知，檢測下限與能夠 獲取的X射線強(qiáng)度的平方根成反比，使檢測下限改善。

檢測下限＝3×(BG強(qiáng)度/測定時間)^1/2/靈敏度

發(fā)明內(nèi)容

在本發(fā)明中，其所解決的技術(shù)問題是：在熒光X射線分析裝置中， 在不降低用檢測器能夠獲取的X射線強(qiáng)度的情況下，有效地改善峰背 比，從而改善檢測下限。

為了解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明的熒光X射線分析裝置由封入具 有流動性的固體或液體試樣的試樣封入容器、對上述試樣照射一次X 射線的X射線源、以及檢測從收到上述一次X射線后的試樣產(chǎn)生的熒 光X射線的檢測器構(gòu)成，根據(jù)上述檢測出的熒光X射線的頻譜來進(jìn)行 試樣的元素分析，其中，上述試樣封入容器具有由透射X射線的材質(zhì) 構(gòu)成的多個壁面，配置成一次X射線照射到具有該壁面的面上，并且 與被照射上述一次X射線的面不同的面與上述X射線檢測器對置，而 且，來自上述X射線源的一次X射線能夠照射與上述X射線檢測器對 置的上述試樣封入容器的壁面。

由此，可以使上述X射線源和上述X射線檢測器接近到與上述試 樣封入容器表面緊密貼合的程度，將來自上述X射線源的一次X射線 能夠高密度地大范圍照射到試樣封入容器，而且將由測定試樣的注目 元素以放射狀產(chǎn)生的熒光X射線高效率地入射到檢測器。即，能夠增 大可用上述X射線檢測器獲取的注目元素的X射線強(qiáng)度，能夠以較優(yōu) 良的靈敏度檢測輕元素中所含有的重金屬。