[發(fā)明專利]噴墨記錄體的制造方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200580037068.6 | 申請日: | 2005-10-04 |
| 公開(公告)號: | CN101060993A | 公開(公告)日: | 2007-10-24 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 鈴木茂;小林滿 | 申請(專利權(quán))人: | 王子制紙株式會社 |
| 主分類號: | B41M5/50 | 分類號: | B41M5/50;B41M5/52;B41M5/00 |
| 代理公司: | 北京德琦知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人: | 徐江華;王珍仙 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 噴墨 記錄 制造 方法 | ||
1、一種噴墨記錄體的制造方法,其在低透氣性或非透氣性的支承體上,或者在形成于該支承體上的溶劑吸收層上依次形成油墨接受層、光澤層,其特征在于,對于光澤層,涂布含有陽離子性微細(xì)顏料及陽離子性乳液型粘結(jié)劑的光澤層用涂布液,以其涂布液層表面接觸光澤輥的方式通過光澤輥和壓輥進(jìn)行擠壓。
2、根據(jù)權(quán)利要求1所述的噴墨記錄體的制造方法,其中,陽離子性微細(xì)顏料為選自平均一次粒徑3~100nm的陽離子化硅膠、平均一次粒徑3~100nm且平均二次粒徑1μm以下的陽離子化氣相法二氧化硅以及平均一次粒徑3~100nm且平均二次粒徑1μm以下的氣相法氧化鋁中的至少一種。
3、根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的噴墨記錄體的制造方法,其中,陽離子性乳液型粘結(jié)劑的最低成膜溫度為20~110℃。
4、根據(jù)權(quán)利要求1~3中的任意一項(xiàng)所述的噴墨記錄體的制造方法,其中,陽離子性乳液型粘結(jié)劑的粒徑為5nm~1000nm。
5、根據(jù)權(quán)利要求1~4中的任意一項(xiàng)所述的噴墨記錄體的制造方法,其中,陽離子性乳液型粘結(jié)劑為選自(甲基)丙烯酸酯的(共)聚合物、苯乙烯樹脂、苯乙烯-(甲基)丙烯酸酯(共)聚合物、甲基丙烯酸甲酯-丁二烯共聚物、苯乙烯-丁二烯共聚物、聚醚類聚氨酯樹脂、聚酯類聚氨酯樹脂、聚碳酸酯類聚氨酯樹脂、環(huán)氧類樹脂、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、乙烯-(甲基)丙烯酸(共)聚合物、三聚氰胺類樹脂、脲類樹脂或烯烴類樹脂中的1種或2種以上的共聚物。
6、根據(jù)權(quán)利要求1~5中的任意一項(xiàng)所述的噴墨記錄體的制造方法,其特征在于,在所述光澤層中,該脫模劑含有下述一般式所表示的脫模劑的至少一種,
一般式:R1-N+R2R3R4X-
式中,R1表示碳原子數(shù)10~18的烷基或烯烴基,R2、R3、R4分別表示H或碳原子數(shù)1~4的烷基,X-表示F-、Cl-、Br-或I-。
7、根據(jù)權(quán)利要求1~6中的任意一項(xiàng)所述的噴墨記錄體的制造方法,其中,所述光澤層的涂布量為0.01~3g/m2。
8、根據(jù)權(quán)利要求1~7中的任意一項(xiàng)所述的噴墨記錄體的制造方法,其中,支承體為樹脂被覆紙或塑料薄膜。
9、根據(jù)權(quán)利要求1~8中的任意一項(xiàng)所述的噴墨記錄體的制造方法,其中,所述支承體為具有紙基材和形成于紙基材的兩面的樹脂層的樹脂被覆紙,所述紙基材及樹脂層的寬度方向的邊緣在同一面上對齊。
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