[發明專利]具有降低的粘著性的聚合物材料、其制備方法以及包含該材料的口香糖組合物

有效

• 申請號: 200580033996.5
• 申請日: 2005-08-12
• 公開（公告）號: CN101128123A
• 公開（公告）日: 2008-02-20
• 發明（設計）人: T·科斯格羅夫;H·克雷克－懷特;E·A·哈桑;V·M·吉布森
• 申請（專利權）人: 雷沃里莫有限公司
• 主分類號: A23G4/08
• 分類號: A23G4/08;C08F279/02;C08G81/00
• 代理公司: 北京北翔知識產權代理有限公司
• 代理人: 鐘守期;唐鐵軍

1.一種具有低粘著性的聚合物材料，所述聚合物材料具有直鏈或支鏈的碳-碳聚合物骨架以及連接在骨架上的多個側鏈，所述側鏈直接連接在聚合物骨架的碳原子上并具有結構式

或具有結構式

其中R¹為H、-C(O)OR⁴或-C(O)Q并且R²為-C(O)OR⁴或-C(O)Q，條件是R¹和R²中至少一個為基團-C(O)Q；

R³為H或-CH₃；

R⁴為H或具有1至6個碳原子的烷基；

Q為式-O-(YO)_b-(ZO)_c-R⁵基團，其中各個Y和Z獨立地為具有2至4個碳原子的亞烷基，R⁵為H或具有1至4個碳原子的烷基；

a為3或4，各個b和c獨立地為0或選自1至125的整數，條件是b+c之和在10至250的范圍內，優選在10至120的范圍內。

2.權利要求1的聚合物材料，其中側鏈具有以下結構式

其中Q的定義如權利要求1。

3.權利要求1的聚合物材料，其中側鏈具有以下結構式

其中Q的定義如權利要求1。

4.權利要求1的聚合物材料，其中側鏈具有以下結構式

其中R¹和R²中的一個為-C(O)Q，另一個為-C(O)OR⁴，其中Q和R⁴定義如權利要求1。

5.權利要求1至4中任意一項的聚合物材料，其中Q中的亞烷基Y和Z均為-CH₂CH₂-。

6.權利要求1至5中任意一項的聚合物材料，其中Q中的基團R⁵為H。

7.權利要求1至5中任意一項的聚合物材料，其中Q中的基團R⁵為-CH₃。

8.權利要求1至7中任意一項的聚合物材料，其中Q中b+c之和在40至50的范圍內。

9.權利要求1至8中任意一項的聚合物材料，其中碳-碳聚合物骨架源自一種可聚合的烯屬不飽和烴類單體的均聚物，或源自兩種或多種可聚合的烯屬不飽和烴類單體的共聚物。

10.權利要求9的聚合物材料，其中碳-碳聚合物骨架源自含有4或5個碳原子的可聚合的烯屬不飽和烴類單體的均聚物。

11.權利要求10的聚合物材料，其中碳-碳聚合物骨架源自異丁烯的均聚物。

12.權利要求10的聚合物材料，其中碳-碳聚合物骨架源自丁二烯或異戊二烯的均聚物。

13.權利要求9的聚合物材料，其中碳-碳聚合物骨架源自異丁烯和異戊二烯的共聚物。

14.權利要求9的聚合物材料，其中碳-碳聚合物骨架源自丁二烯-苯乙烯嵌段共聚物。

15.一種制備權利要求1的聚合物材料的方法，其中側鏈具有下式結構

-CH₂CH(CH₃)-C(O)-O-(YO)_b-(ZO)_c-R⁵，

其中Y、Z、R⁵、b和c定義如權利要求1，所述方法包括使直鏈或支鏈的烴類聚合物在溶劑中、在惰性氣氛中并在自由基引發劑的存在下與下式化合物反應

CH₂＝C(CH₃)C(O)O-(YO)_b-(ZO)_c-R⁵。

16.權利要求15的方法，其中溶劑為甲苯。

17.權利要求15或16的方法，其中自由基引發劑為過氧化苯甲酰。