[發明專利]光刻膠保護膜形成用材料以及使用該材料的光刻膠圖案形成方法無效
| 申請號： | 200580025663.8 | 申請日： | 2005-07-29 |
| 公開（公告）號： | CN101019075A | 公開（公告）日： | 2007-08-15 |
| 發明（設計）人： | 石冢啟太;遠藤浩太郎;平野智之 | 申請（專利權）人： | 東京應化工業株式會社 |
| 主分類號： | G03F7/11 | 分類號： | G03F7/11;G03F7/039;G03F7/38;H01L21/027;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市金杜律師事務所 | 代理人： | 徐雁漪 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 光刻 保護膜 形成 用材 以及 使用 材料 圖案 方法 | ||
【說明書】：
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