[發(fā)明專利]光刻膠保護膜形成用材料以及使用該材料的光刻膠圖案形成方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200580025663.8 | 申請日： | 2005-07-29 |
| 公開（公告）號： | CN101019075A | 公開（公告）日： | 2007-08-15 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 石冢啟太;遠藤浩太郎;平野智之 | 申請（專利權(quán)）人： | 東京應化工業(yè)株式會社 |
| 主分類號： | G03F7/11 | 分類號： | G03F7/11;G03F7/039;G03F7/38;H01L21/027;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市金杜律師事務所 | 代理人： | 徐雁漪 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 光刻 保護膜 形成 用材 以及 使用 材料 圖案 方法 | ||
【權(quán)利要求書】：
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G03 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)
G03F 圖紋面的照相制版工藝，例如，印刷工藝、半導體器件的加工工藝；其所用材料；其所用原版；其所用專用設(shè)備
G03F7-00 圖紋面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工藝；圖紋面照相制版用的材料，如：含光致抗蝕劑的材料；圖紋面照相制版的專用設(shè)備
G03F7-004 .感光材料
G03F7-12 .網(wǎng)屏印刷模或類似印刷模的制作，例如，鏤花模版的制作
G03F7-14 .珂羅版印刷模的制作
G03F7-16 .涂層處理及其設(shè)備
G03F7-20 .曝光及其設(shè)備
G03F 圖紋面的照相制版工藝，例如，印刷工藝、半導體器件的加工工藝；其所用材料；其所用原版；其所用專用設(shè)備
G03F7-00 圖紋面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工藝；圖紋面照相制版用的材料，如：含光致抗蝕劑的材料；圖紋面照相制版的專用設(shè)備
G03F7-004 .感光材料
G03F7-12 .網(wǎng)屏印刷模或類似印刷模的制作，例如，鏤花模版的制作
G03F7-14 .珂羅版印刷模的制作
G03F7-16 .涂層處理及其設(shè)備
G03F7-20 .曝光及其設(shè)備
