[發明專利]基于等離子體的離子注入的法拉第劑量和均勻度監測器有效
| 申請號: | 200580017420.X | 申請日: | 2005-03-04 |
| 公開(公告)號: | CN101015034A | 公開(公告)日: | 2007-08-08 |
| 發明(設計)人: | S·R·沃爾瑟;R·多賴;H·佩爾辛;J·朔伊爾;B·-W·擴;B·O·彼得森;C·利維特;T·米勒 | 申請(專利權)人: | 瓦里安半導體設備公司 |
| 主分類號: | H01J37/32 | 分類號: | H01J37/32;H01J37/244 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 張亞寧;梁永 |
| 地址: | 美國馬*** | 國省代碼: | 美國;US |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 基于 等離子體 離子 注入 法拉第 劑量 均勻 監測器 | ||
【說明書】:
下載完整專利技術內容需要扣除積分,VIP會員可以免費下載。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于瓦里安半導體設備公司,未經瓦里安半導體設備公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/200580017420.X/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





