[發明專利]離子注入方法及離子注入裝置無效
| 申請號： | 200580001958.1 | 申請日： | 2005-01-06 |
| 公開（公告）號： | CN1906324A | 公開（公告）日： | 2007-01-31 |
| 發明（設計）人： | 笠間泰彥;表研次;橫尾邦義 | 申請（專利權）人： | 理想星株式會社 |
| 主分類號： | C23C14/48 | 分類號： | C23C14/48;C01B31/02;H01L21/265;H01L51/00;H01L29/06;H01M8/02;H01B13/00;H01J37/317 |
| 代理公司： | 北京海虹嘉誠知識產權代理有限公司 | 代理人： | 吳小燦;張濤 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 離子 注入 方法 裝置 | ||
【權利要求書】：
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