[發(fā)明專利]半導(dǎo)體制造裝置的保養(yǎng)時(shí)期判斷方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200510084697.6 | 申請(qǐng)日: | 2000-08-31 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN1854715A | 公開(kāi)(公告)日: | 2006-11-01 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 長(zhǎng)谷川博之;山岡智則;石原良夫;增崎宏;佐藤貴之;鈴木克昌;德永裕樹 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 株式會(huì)社上睦可;大陽(yáng)日酸株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào): | G01N21/39 | 分類號(hào): | G01N21/39;C23C16/00;H01L21/205 |
| 代理公司: | 中國(guó)專利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 梁永 |
| 地址: | 日本*** | 國(guó)省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 半導(dǎo)體 制造 裝置 保養(yǎng) 時(shí)期 判斷 方法 | ||
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于株式會(huì)社上睦可;大陽(yáng)日酸株式會(huì)社,未經(jīng)株式會(huì)社上睦可;大陽(yáng)日酸株式會(huì)社許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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- 專利分類
G01N 借助于測(cè)定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見(jiàn)光或紫外光來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測(cè)試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測(cè)試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測(cè)試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長(zhǎng)發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測(cè)試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)
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