[發明專利]在真空或低壓環境中操作氣體且可供觀測的裝置

無效

• 申請號: 200510074327.4
• 申請日: 2005-06-01
• 公開（公告）號: CN101074920A
• 公開（公告）日: 2007-11-21
• 發明（設計）人: 趙治宇;謝文俊
• 申請（專利權）人: 李炳寰
• 主分類號: G01N21/00
• 分類號: G01N21/00;G02B21/00;G01N21/01
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司
• 代理人: 湯保平

1.一種在真空或低壓環境中操作氣體且可供觀測的裝置，其特征在于，包含有：

一殼體，一側形成一較扁部，該殼體內部具有至少一隔板，而將該殼體內部分隔形成一氣室，以及于該氣室外部形成至少一緩沖室，該氣室的頂底面的隔板分別設有一內孔，且該殼體的頂面及底面各設有一外孔，該等內孔與該等外孔同軸且位于該較扁部，該殼體具有一抽氣孔連通于該緩沖室，以及具有一注氣孔連通于該氣室。

2.依據權利要求1所述的在真空或低壓環境中操作氣體且可供觀測的裝置，其特征在于，其中還包含有：一液氣容器，以一氣管連接于該注氣孔，用以對該氣室提供氣體。

3.依據權利要求2所述的在真空或低壓環境中操作氣體且可供觀測的裝置，其特征在于，其中：該氣體是為蒸氣，或特定氣體，或者為蒸氣與特定氣體的混合。

4.依據權利要求3所述的在真空或低壓環境中操作氣體且可供觀測的裝置，其特征在于，其中：該特定氣體是為氮氣、或氧氣、或二氧化碳或其他惰性氣體或其混合物。

5.依據權利要求2所述的在真空或低壓環境中操作氣體且可供觀測的裝置，其特征在于，其中：該液氣容器位于一該緩沖室內。

6.依據權利要求2所述的在真空或低壓環境中操作氣體且可供觀測的裝置，其特征在于，其中：該液氣容器是位于該殼體外部。

7.依據權利要求1所述的在真空或低壓環境中操作氣體且可供觀測的裝置，其特征在于，其中還包含有：一樣品治具，具有一置物臺，該置物臺具有一開口，該殼體具有一置物孔連通于該氣室，該樣品治具是由外部經由該置物孔伸入而容置于該氣室內，并使該等內孔及該等外孔的同軸軸心通過該開口，該樣品治具具有一密封件，填塞于該樣品治具與該氣室間的空隙。

8.依據權利要求1所述的在真空或低壓環境中操作氣體且可供觀測的裝置，其特征在于，其中還包含有：一抽氣裝置，連接于該抽氣孔。

9.依據權利要求1所述的在真空或低壓環境中操作氣體且可供觀測的裝置，其特征在于，其中：該等內孔的孔徑是為10-200um，該等外孔的孔徑是為20-800um，且各該內孔的孔徑小于各該外孔的孔徑。

10.依據權利要求1所述的在真空或低壓環境中操作氣體且可供觀測的裝置，其特征在于，其中：該較扁部的厚度小于電子顯微鏡的樣品室內上下二極塊間的距離。

11.依據權利要求10所述的在真空或低壓環境中操作氣體且可供觀測的裝置，其特征在于，其中：該殼體內是更于該緩沖室的上下方分別形成一上外緩沖室以及一下外緩沖室，該緩沖室以及該上外緩沖室以及該下外緩沖室均對應一抽氣孔，該等抽氣孔是設于該殼體，該緩沖室與該上、下外緩沖室之間的隔板是分別形成一緩沖孔，而與該等內孔及該等外孔同軸。

12.依據權利要求11所述的在真空或低壓環境中操作氣體且可供觀測的裝置，其中：該等緩沖孔的孔徑介于10um-400um之間，且該等緩沖孔的孔徑介于該等內孔與該等外孔的孔徑之間。

13.依據權利要求11所述的在真空或低壓環境中操作氣體且可供觀測的裝置，其特征在于，其中：該上外緩沖室以及該下外緩沖室的抽氣速率大于該緩沖室的抽氣速率。

14.依據權利要求1所述的在真空或低壓環境中操作氣體且可供觀測的裝置，其特征在于，其中：各該緩沖室內更具有一斜隔板，將各該緩沖室原有的空間分隔為二子緩沖室，各該斜隔板具有一緩沖孔，而與該等內孔及該等外孔同軸，各該子緩沖室是對應該殼體上的一抽氣孔。