[發明專利]光刻裝置及器件制造方法有效
| 申請號： | 200510064163.7 | 申請日： | 2005-04-13 |
| 公開（公告）號： | CN1684001A | 公開（公告）日： | 2005-10-19 |
| 發明（設計）人： | A·Y·科勒斯恩臣科;J·J·M·巴塞曼斯;S·N·L·多納斯;C·A·胡根達姆;H·詹森;J·J·S·M·梅坦斯;J·C·H·穆肯斯;F·G·P·皮特斯;B·斯特里科克;F·J·H·M·特尤尼斯森;H·范桑坦 | 申請（專利權）人： | ASML荷蘭有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/20 | 分類號： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中國專利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 肖春京 |
| 地址： | 荷蘭維*** | 國省代碼： | 荷蘭;NL |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 光刻 裝置 器件 制造 方法 | ||
【權利要求書】：
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