[發明專利]化學機械拋光(CMP)貴金屬無效
| 申請號： | 200480018455.0 | 申請日： | 2004-06-03 |
| 公開（公告）號： | CN1813038A | 公開（公告）日： | 2006-08-02 |
| 發明（設計）人： | 弗朗切斯科·德雷杰特薩烏羅;弗拉斯塔·布魯西奇;本杰明·P·拜爾 | 申請（專利權）人： | 卡博特微電子公司 |
| 主分類號： | C09G1/02 | 分類號： | C09G1/02;H01L21/302 |
| 代理公司： | 北京律盟知識產權代理有限責任公司 | 代理人： | 王允方;劉國偉 |
| 地址： | 美國伊*** | 國省代碼： | 美國;US |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 化學 機械拋光 cmp 貴金屬 | ||
【說明書】：
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