[發(fā)明專利]化學(xué)機(jī)械拋光(CMP)貴金屬無效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200480018455.0 | 申請(qǐng)日： | 2004-06-03 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN1813038A | 公開（公告）日： | 2006-08-02 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 弗朗切斯科·德雷杰特薩烏羅;弗拉斯塔·布魯西奇;本杰明·P·拜爾 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 卡博特微電子公司 |
| 主分類號(hào)： | C09G1/02 | 分類號(hào)： | C09G1/02;H01L21/302 |
| 代理公司： | 北京律盟知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 | 代理人： | 王允方;劉國(guó)偉 |
| 地址： | 美國(guó)伊*** | 國(guó)省代碼： | 美國(guó);US |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 化學(xué) 機(jī)械拋光 cmp 貴金屬 | ||
【權(quán)利要求書】：
下載完整專利技術(shù)內(nèi)容需要扣除積分，VIP會(huì)員可以免費(fèi)下載。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息，商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于卡博特微電子公司，未經(jīng)卡博特微電子公司許可，擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作，請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/200480018455.0/1.html，轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 化學(xué)處理方法和化學(xué)處理裝置
- 基礎(chǔ)化學(xué)數(shù)字化學(xué)習(xí)中心
- 化學(xué)處理方法和化學(xué)處理裝置
- 化學(xué)清洗方法以及化學(xué)清洗裝置
- 化學(xué)強(qiáng)化組合物、化學(xué)強(qiáng)化方法及化學(xué)強(qiáng)化玻璃
- 化學(xué)天平（無機(jī)化學(xué)）
- 電化學(xué)裝置的化學(xué)配方
- 化學(xué)強(qiáng)化方法、化學(xué)強(qiáng)化裝置和化學(xué)強(qiáng)化玻璃
- 化學(xué)強(qiáng)化方法及化學(xué)強(qiáng)化玻璃
- 化學(xué)打尖方法和化學(xué)組合物
