[發(fā)明專利]包括用于沉浸光刻裝置的真空清除的環(huán)境系統(tǒng)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200480009675.7
• 申請(qǐng)日: 2004-03-29
• 公開（公告）號(hào): CN101061429A
• 公開（公告）日: 2007-10-24
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 安德魯·J·黑茲爾頓;邁克爾·瑟高
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 株式會(huì)社尼康
• 主分類號(hào): G03B27/32
• 分類號(hào): G03B27/32;G03B27/42
• 代理公司: 中國(guó)國(guó)際貿(mào)易促進(jìn)委員會(huì)專利商標(biāo)事務(wù)所
• 代理人: 秦晨

相關(guān)申請(qǐng)

本申請(qǐng)要求2003年4月10日提交、名稱為“VACUUM?RINGSYSTEM?AND?WICK?RING?SYSTEM?FOR?IMMERSIONLITHOGRAPHY?METHOD?AND?DEVICE?FOR?CONTROLLINGTHERMAL?DISTORION?IN?ELEMENTS?OF?A?LITHOGRAPHYSYSTEM(用于控制光刻系統(tǒng)元件中熱變形的沉浸光刻方法和設(shè)備的真空環(huán)形系統(tǒng)和油繩環(huán)形系統(tǒng))”的臨時(shí)申請(qǐng)序列號(hào)60/462,112和2003年7月1日提交、名稱為“FLUID?CONTROL?SYSTEM?FORIMMERSION?LITHOGRAPHY?TOOL(沉浸光刻工具的流體控制系統(tǒng))”的臨時(shí)申請(qǐng)序列號(hào)60/484,476號(hào)的優(yōu)先權(quán)益。只要允許，臨時(shí)申請(qǐng)序列號(hào)60/462,112和60/484,476的內(nèi)容在此引用作為參考。?

背景技術(shù)

在半導(dǎo)體處理過(guò)程中，光刻曝光裝置通常用于將圖像從標(biāo)線片傳送到半導(dǎo)體晶片上。典型的曝光裝置包括照明源，定位標(biāo)線片的標(biāo)線片載物臺(tái)裝配，光學(xué)組件，定位半導(dǎo)體晶片的晶片載物臺(tái)裝配，以及精確監(jiān)控標(biāo)線片和晶片位置的測(cè)量系統(tǒng)。?

沉浸光刻系統(tǒng)利用完全充滿光學(xué)組件與晶片之間間隙的一層浸液。晶片在典型的光刻系統(tǒng)中快速移動(dòng)并且它將期望將沉浸流體從間隙中帶走。從間隙中漏出的該沉浸流體可能干擾光刻系統(tǒng)其他組件的操作。例如，沉浸流體及其蒸汽可能干擾監(jiān)控晶片位置的測(cè)量系統(tǒng)。?

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明涉及一種控制光學(xué)組件與由器件載物臺(tái)保持的器件之間的間隙中環(huán)境的環(huán)境系統(tǒng)。該環(huán)境系統(tǒng)包括流體屏障和沉浸流體系統(tǒng)。?流體屏障位于器件附近并且環(huán)繞間隙。沉浸流體系統(tǒng)輸送充滿間隙的沉浸流體。?

在一種實(shí)施方案中，沉浸流體系統(tǒng)收集直接位于流體屏障以及器件和器件載物臺(tái)中至少一個(gè)之間的沉浸流體。在該實(shí)施方案中，流體屏障包括位于器件附近的清除入口，并且沉浸流體系統(tǒng)包括與清除入口流體連通的低壓源。另外，流體屏障可以限制并包含沉浸流體以及來(lái)自沉浸流體的任何蒸汽于間隙附近的區(qū)域中。?

在另一種實(shí)施方案中，環(huán)境系統(tǒng)包括在流體屏障與器件之間引導(dǎo)軸承流體以相對(duì)于器件支撐流體屏障的軸承流體源。在該實(shí)施方案中，流體屏障包括位于器件附近的軸承出口。此外，軸承出口與軸承流體源流體連通。?

另外，環(huán)境系統(tǒng)可以包括使得間隙中的壓力近似等于流體屏障外部壓力的均壓器。在一種實(shí)施方案中，例如，均壓器是延伸通過(guò)流體屏障的通道。?

而且，器件載物臺(tái)可以包括與器件的器件暴露表面處于近似相同平面中的載物臺(tái)表面。作為實(shí)例，器件載物臺(tái)可以包括保持器件的器件固定器，限定載物臺(tái)表面的擋板，以及移動(dòng)器件固定器和擋板中一個(gè)使得器件暴露表面與載物臺(tái)表面近似處于相同平面中的移動(dòng)器組件。在一種實(shí)施方案中，移動(dòng)器組件相對(duì)于器件和器件固定器移動(dòng)擋板。在另一種實(shí)施方案中，移動(dòng)器組件相對(duì)于擋板移動(dòng)器件固定器和器件。?

本發(fā)明也涉及一種曝光裝置，一種晶片，一種器件，一種控制間隙中環(huán)境的方法，一種制造曝光裝置的方法，一種制造器件的方法，以及一種制造晶片的方法。?

具體地說(shuō)，本發(fā)明請(qǐng)求保護(hù)一種用于沉浸光刻的環(huán)境系統(tǒng)，用于控制光學(xué)組件與晶圓之間間隙中的環(huán)境，該環(huán)境系統(tǒng)包括：位于晶圓附近的流體屏障；以及沉浸液體系統(tǒng)，其用沉浸液體充滿間隙，并且收集直接位于流體屏障與晶圓之間的沉浸液體，其中，在流體屏障與晶圓之間形成流體軸承。?

另一方面，本發(fā)明請(qǐng)求保護(hù)一種用于將圖像傳送到晶圓的曝光裝置，該曝光裝置包括：光學(xué)組件，以及控制光學(xué)組件與晶圓之間的間隙中的環(huán)境的上述環(huán)境系統(tǒng)。?

另一方面，本發(fā)明請(qǐng)求保護(hù)一種制造晶圓的過(guò)程，包括提供晶圓并且使用根據(jù)上述的曝光裝置將圖像傳送到晶圓的步驟。?

另一方面，本發(fā)明請(qǐng)求保護(hù)一種用于沉浸光刻的方法，控制光學(xué)組件與晶圓之間間隙中的環(huán)境，該方法包括步驟：在晶圓附近放置流體屏障；使用沉浸液體系統(tǒng)用沉浸液體充滿間隙；收集直接位于流體屏障與晶圓之間的沉浸液體；以及在流體屏障與晶圓之間形成流體軸承。?

附圖說(shuō)明

圖1是具有本發(fā)明特征的曝光裝置的側(cè)面說(shuō)明；?

圖2A是在圖1的線2A-2A上獲取的剖視圖；?

圖2B是在圖2A的線2B-2B上獲取的剖視圖；?

圖2C是具有本發(fā)明特征的容器框架的透視圖；?