[發明專利]包括用于沉浸光刻裝置的真空清除的環境系統

有效

• 申請號: 200480009675.7
• 申請日: 2004-03-29
• 公開（公告）號: CN101061429A
• 公開（公告）日: 2007-10-24
• 發明（設計）人: 安德魯·J·黑茲爾頓;邁克爾·瑟高
• 申請（專利權）人: 株式會社尼康
• 主分類號: G03B27/32
• 分類號: G03B27/32;G03B27/42
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所
• 代理人: 秦晨

1.一種用于沉浸光刻的環境系統，用于控制透鏡與晶圓之間間 隙中的環境，該環境系統包括：

位于晶圓附近的流體屏障；以及

沉浸液體系統，其用沉浸液體充滿間隙，并且收集直接位于流體 屏障與晶圓之間的沉浸液體，

其中，在流體屏障與晶圃之間形成流體軸承。

2.根據權利要求1的環境系統，其中流體屏障環繞間隙并且抑 制沉浸液體離開間隙附近的區域。

3.根據權利要求1的環境系統，其中流體屏障包括位于晶圓附 近的清除入口，并且將真空應用于所述清除入口。

4.一種用于將圖像傳送到晶圓的曝光裝置，該曝光裝置包括：

透鏡，以及

控制透鏡與晶圓之間的間隙中的環境的權利要求1的環境系統。

5.一種制造晶圓的過程，包括提供晶圓并且使用根據權利要求4 的曝光裝置將圖像傳送到晶圓的步驟。

6.一種用于沉浸光刻的方法，控制透鏡與晶圓之間間隙中的環 境，該方法包括步驟：

在晶圓附近放置流體屏障；

使用沉浸液體系統用沉浸液體充滿間隙；

收集直接位于流體屏障與晶圓之間的沉浸液體；以及

在流體屏障與晶圓之間形成流體軸承。

7.根據權利要求6的方法，其中流體屏障包括位于晶圓附近的 清除入口，并且將真空應用于所述清除入口。