[發(fā)明專利]在氣體環(huán)境中執(zhí)行曝光處理的基片處理系統(tǒng)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200410071264.2 | 申請日： | 2002-08-28 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN1554989A | 公開（公告）日： | 2004-12-15 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 城戶秀作;飯尾善秀;池田雅樹 | 申請（專利權(quán)）人： | NEC液晶技術(shù)株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào)： | G03F7/20 | 分類號(hào)： | G03F7/20;G03F7/00;H01L21/00 |
| 代理公司： | 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 | 代理人： | 朱進(jìn)桂 |
| 地址： | 日本神*** | 國省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 氣體 環(huán)境 執(zhí)行 曝光 處理 系統(tǒng) | ||
【說明書】：
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G03 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)
G03F 圖紋面的照相制版工藝，例如，印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝；其所用材料；其所用原版；其所用專用設(shè)備
G03F7-00 圖紋面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工藝；圖紋面照相制版用的材料，如：含光致抗蝕劑的材料；圖紋面照相制版的專用設(shè)備
G03F7-004 .感光材料
G03F7-12 .網(wǎng)屏印刷?；蝾愃朴∷⒛５闹谱?，例如，鏤花模版的制作
G03F7-14 .珂羅版印刷模的制作
G03F7-16 .涂層處理及其設(shè)備
G03F7-20 .曝光及其設(shè)備
G03F 圖紋面的照相制版工藝，例如，印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝；其所用材料；其所用原版；其所用專用設(shè)備
G03F7-00 圖紋面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工藝；圖紋面照相制版用的材料，如：含光致抗蝕劑的材料；圖紋面照相制版的專用設(shè)備
G03F7-004 .感光材料
G03F7-12 .網(wǎng)屏印刷?；蝾愃朴∷⒛５闹谱?，例如，鏤花模版的制作
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