[發明專利]在氣體環境中執行曝光處理的基片處理系統有效
| 申請號： | 200410071264.2 | 申請日： | 2002-08-28 |
| 公開（公告）號： | CN1554989A | 公開（公告）日： | 2004-12-15 |
| 發明（設計）人： | 城戶秀作;飯尾善秀;池田雅樹 | 申請（專利權）人： | NEC液晶技術株式會社 |
| 主分類號： | G03F7/20 | 分類號： | G03F7/20;G03F7/00;H01L21/00 |
| 代理公司： | 中科專利商標代理有限責任公司 | 代理人： | 朱進桂 |
| 地址： | 日本神*** | 國省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 氣體 環境 執行 曝光 處理 系統 | ||
【權利要求書】：
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