[發明專利]場發射陰極和場發射裝置有效
| 申請號： | 200410052265.2 | 申請日： | 2004-11-12 |
| 公開（公告）號： | CN1773649A | 公開（公告）日： | 2006-05-17 |
| 發明（設計）人： | 盛雷梅;柳鵬;魏洋;潛力;唐潔;劉亮;陳丕瑾;胡昭復;范守善 | 申請（專利權）人： | 清華大學;鴻富錦精密工業（深圳）有限公司 |
| 主分類號： | H01J1/304 | 分類號： | H01J1/304 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 100084*** | 國省代碼： | 北京;11 |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 發射 陰極 裝置 | ||
【說明書】：
下載完整專利技術內容需要扣除積分，VIP會員可以免費下載。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于清華大學;鴻富錦精密工業（深圳）有限公司，未經清華大學;鴻富錦精密工業（深圳）有限公司許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作，請聯系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/200410052265.2/2.html，轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
