[發(fā)明專利]場(chǎng)發(fā)射陰極和場(chǎng)發(fā)射裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200410052265.2 | 申請(qǐng)日： | 2004-11-12 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN1773649A | 公開（公告）日： | 2006-05-17 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 盛雷梅;柳鵬;魏洋;潛力;唐潔;劉亮;陳丕瑾;胡昭復(fù);范守善 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 清華大學(xué);鴻富錦精密工業(yè)（深圳）有限公司 |
| 主分類號(hào)： | H01J1/304 | 分類號(hào)： | H01J1/304 |
| 代理公司： | 暫無(wú)信息 | 代理人： | 暫無(wú)信息 |
| 地址： | 100084*** | 國(guó)省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 發(fā)射 陰極 裝置 | ||
【權(quán)利要求書】：
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