[發(fā)明專利]光刻膠層中減小圖案尺寸的方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200410011596.1 | 申請(qǐng)日： | 2002-07-04 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN1652024A | 公開（公告）日： | 2005-08-10 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 菅田祥樹;金子文武;立川俊和 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 東京應(yīng)化工業(yè)株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào)： | G03F7/00 | 分類號(hào)： | G03F7/00;H01L21/00 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律師事務(wù)所 | 代理人： | 宋莉;賈靜環(huán) |
| 地址： | 日本神*** | 國(guó)省代碼： | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 光刻 膠層中 減小 圖案 尺寸 方法 | ||
【說明書】：
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G03 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)
G03F 圖紋面的照相制版工藝，例如，印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝；其所用材料；其所用原版；其所用專用設(shè)備
G03F7-00 圖紋面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工藝；圖紋面照相制版用的材料，如：含光致抗蝕劑的材料；圖紋面照相制版的專用設(shè)備
G03F7-004 .感光材料
G03F7-12 .網(wǎng)屏印刷模或類似印刷模的制作，例如，鏤花模版的制作
G03F7-14 .珂羅版印刷模的制作
G03F7-16 .涂層處理及其設(shè)備
G03F7-20 .曝光及其設(shè)備
G03F 圖紋面的照相制版工藝，例如，印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝；其所用材料；其所用原版；其所用專用設(shè)備
G03F7-00 圖紋面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工藝；圖紋面照相制版用的材料，如：含光致抗蝕劑的材料；圖紋面照相制版的專用設(shè)備
G03F7-004 .感光材料
G03F7-12 .網(wǎng)屏印刷模或類似印刷模的制作，例如，鏤花模版的制作
G03F7-14 .珂羅版印刷模的制作
G03F7-16 .涂層處理及其設(shè)備
G03F7-20 .曝光及其設(shè)備
