[其他]濕化學共沉淀氧化鋯(Mg-PSZ)的封接工藝在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 101987000000243 | 申請日: | 1987-03-24 |
| 公開(公告)號: | CN87100243B | 公開(公告)日: | 1988-08-10 |
| 發(fā)明(設計)人: | 溫廷璉;施鑫陶;李曉飛 | 申請(專利權)人: | 中國科學院上海硅酸鹽研究所 |
| 主分類號: | 分類號: | ||
| 代理公司: | 中國科學院上海專利事務所 | 代理人: | 聶淑儀;潘振蘇 |
| 地址: | 上海市*** | 國省代碼: | 上海;31 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 化學 共沉淀 氧化鋯 mg psz 工藝 | ||
濕化學共沉淀制備的氧化鋯(Mg-PSZ)的封接工藝,介紹了一種用固體電觸質(zhì)陶瓷(Mg-PSZ)與玻璃、陶瓷及合金的封接,可分別采用煤氣一氧氣混合焰的普通燈工吹制及過火技術:中溫封接及中、低溫范圍不同降溫速率的封接。本發(fā)明工藝簡單,封接件可達真空氣密或氦檢氣密的要求。特別是由于Mg-PSZ可與合金進行封接,拓寬了Mg-PSZ作為氧敏器件的技術應用范圍。
本發(fā)明所涉及的是玻璃與玻璃或其它材料(如陶瓷、合金)的接合。
現(xiàn)有的氧化鋯的封接工藝(Brit.UK.Pat.2021,555)是采用鋁、銻或鋯粉與多種成分的玻璃粉作封接劑,需在1430℃的高溫下,才能完成與ZrO2固體電解質(zhì)與玻璃的封接;也無與玻璃直接封接的工藝。不能適用于多種材料。因此其封接工藝適用面窄。
本發(fā)明的目的在于提供一種由溫化學共沉淀法獲得的用氧化鎂部分穩(wěn)定的氧化鋯(Mg-PSZ)固體電解質(zhì)用于與玻璃、陶瓷及合金的封接的幾種工藝技術。
本發(fā)明的要點是:提供了用濕化學共沉淀獲得的Mg-PSZ作為主要封接材料,可用多種方式及對多種材料進行封接。
1.與玻璃管的直接封接,采用煤氣-氧氣混合煙的普通燈工吹制工藝及退火技術。
2.與95氧化鋁陶瓷管的封接,采用兩種工藝條件:
其一是:采用不同降溫速率的中溫封接。即:固定升溫速率(在200~250℃/小時范圍),其降溫速率分別是1030℃~500℃之間,為300℃/小時。
在500℃-室溫之間,為40℃/小時。
其二是:用玻璃封接劑的中溫封接工藝,其條件是:
封接劑是DM-308玻璃;
封接溫度950~1050℃保溫半小時。
3.可與低膨脹系數(shù)合金(4J29鐵線鈷合金、4J36合金、可伐合金)進行封接,采用DM-308玻璃作封接劑;先將DM-308玻璃管與合金法蘭封接,再用上述封接方法與Mg-PSZ進行中溫封接。
本發(fā)明的優(yōu)點是:封接工藝簡單;封接件可達真空氣密或氦檢氣密的要求;可使Mg-PSZ與低膨脹系數(shù)合金(如4J29鐵線鈷等)封接,拓寬了Mg-PSZ作為氧敏器件的技術應用范圍。(見列表)
已報導的封接工藝與本發(fā)明的比較:
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