[其他]涂層用釉料的涂燒工藝方法

在審

• 申請號: 101986000005131
• 申請日: 1986-08-16
• 公開（公告）號: CN86105131B
• 公開（公告）日: 1988-12-14
• 發明（設計）人: 王德明;徐煒;李金安
• 申請（專利權）人: 北京有色金屬研究總院
• 代理公司: 北京市第三專利代理事務所
• 代理人: 陸菊華;母宗緒

1、一種適用于低質材料坯的釉料的涂燒工藝方法，包括配制釉漿，在坯料上涂復釉漿，燒結工序，其特征是：

1）所說的在坯料上涂復釉漿是在坯料上直接涂復由釉料和添加劑組成的釉漿，所說的釉料由基料和著色劑組成，所說的基料的組份為SiO₂41-72、CaO3.7-11.3、Na₂O12-24、MgO.4-4.2、Al₂O₃1.0-2.5、K₂O0.13-0.21、Li₂O0.08-0.12、B₂O₃0-9.6（重量%），所說的著色劑為銅粉0-5、Fe₂O₃粉0-8、CeO₂粉0-10（重量%），所說的添加劑為膨潤土1-5、TiO₂0.25（重量%），

2）所說的燒結工序中的燒結溫度為700-900℃。

2、按照權利要求1所說的涂燒工藝方法，其特征是所說的釉漿中的添加劑為膨潤土0.1-5、CeO₂0.5-4（重量%）。

3、根據權利要求1或2所說的釉料涂燒工藝方法，其特征是所說的涂復是噴涂，噴涂壓力為0.3-1大氣壓。

4、一種適用于低質材料坯的釉料的涂燒工藝方法，包括配制釉漿，涂復釉漿，燒結工序，其特征是：

1）所說的釉料的涂燒工藝還包括配制釉漿后，先在坯料上涂復由釉料和添加劑組成的底料，然后再涂復由釉料和添加劑組成的釉漿，

所說的底料和釉漿中的釉料由基料和著色劑組成，所說的基料的組份為SiO₂41-72、CaO3.7-11.3，Na₂O12-24、MgO₂.4-4.2、Al₂O₃1.0-2.5、K₂O0.13-0.21、Li₂O0.08-0.12、B₂O₃0-9.6（重量%），

所說的著色劑為銅粉0-5、Fe₂O₃粉0-8、CeO₂粉0-10（重量%），

所說的底料中的添料中的添加劑為膨潤土1-6、TiO₂0-3（重量%），

所說的釉漿中的添加劑為膨潤土0.5-3、TiO₂0-3（重量%），

2）所說的燒結工序中的燒結溫度為700-900℃。

5、根據權利要求4所說的釉料的涂燒工藝方法，其特征是所說的釉漿中的添加劑為膨潤土1-3、CeO₂0.1-1（重量%），

6、根據權利要求4或5所說的釉料的涂燒工藝方法，其特征是所說的底料中的添加劑為TiO₂0.1-3、CeO₂0.1-6（重量%）。

7、根據權利要求4或5所說的釉料涂燒工藝方法，其特征是所說的涂復是噴涂，噴涂壓力為0.3-1大氣壓。

8、根據權利要求6所說的釉料涂燒工藝方法，其特征是所說的涂復是噴涂，噴涂壓力為0.3-1大氣壓。