[其他]半導(dǎo)體汽化冷卻裝置在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 101986000002472 | 申請(qǐng)日: | 1986-04-09 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN1003026B | 公開(kāi)(公告)日: | 1989-01-04 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 板鼻搏;簿井義典 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 株式會(huì)社日立制作所 |
| 主分類(lèi)號(hào): | 分類(lèi)號(hào): | ||
| 代理公司: | 上海專利事務(wù)所 | 代理人: | 楊國(guó)勝 |
| 地址: | 日本東京都千*** | 國(guó)省代碼: | 暫無(wú)信息 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 半導(dǎo)體 汽化 冷卻 裝置 | ||
半導(dǎo)體堆由層疊和緊固在一起的GTO可控硅,冷卻件和接線導(dǎo)體構(gòu)成。半導(dǎo)體堆配置在冷卻器內(nèi),并充以氟利昂液。冷凝器配置在冷卻器上面,通過(guò)連通管與冷卻器連接構(gòu)成冷卻裝置。每個(gè)冷卻件在GTO可控硅和接線導(dǎo)體之間配置并有許多小孔,氟利昂液在小孔內(nèi)裱可控硅產(chǎn)生的熱所沸騰變成氟利昂蒸汽趨向接線導(dǎo)體。每個(gè)接線導(dǎo)體在它與冷卻器接觸的表面上有許多縱向縫隙。氟利昂蒸汽沿縫隙向上流動(dòng)以提高致冷劑冷卻循環(huán)效率。
本發(fā)明涉及一種汽化冷卻的半導(dǎo)體的裝置,它適用于用以控制鐵路列車(chē)的主電動(dòng)機(jī)的速度的斷續(xù)器或直流-交流變換器。
用以汽化冷卻半導(dǎo)體元件的技術(shù)的發(fā)展主要表現(xiàn)在斷續(xù)器或直流-交流變換器的應(yīng)用上,這種斷續(xù)器或直流-交流變換器用于鐵路列車(chē),而且要求有大容量的半導(dǎo)體元件。
已有的半導(dǎo)體汽化冷卻裝置包括一個(gè)裝有半導(dǎo)體堆的冷卻器和一種諸如氟利昂113的液態(tài)致冷劑以及一個(gè)設(shè)置在冷卻器上的冷凝器,其設(shè)置方式允許冷凝器與冷卻器連通。整個(gè)冷卻器和冷凝器與大氣隔絕密封,構(gòu)成一個(gè)密封容器。這種裝置的典型范例揭示在日本專利公開(kāi)號(hào)68662/1980的說(shuō)明書(shū)中。
又例如,半導(dǎo)體堆又一個(gè)實(shí)例揭示在日本專利公開(kāi)號(hào)41734/1980的說(shuō)明書(shū)中。這種半導(dǎo)體堆包括一個(gè)半導(dǎo)體元件,冷卻件(熱輻射板)(在冷卻件之間配置半導(dǎo)體元件)和接線導(dǎo)體(在接線導(dǎo)體之間配置冷卻件和半導(dǎo)體元件)。(在上述日本專利公開(kāi)號(hào)41734/1980中)進(jìn)一步提出要把冷卻件的表面做成多孔或粗糙的,以便提高相對(duì)于液態(tài)致冷劑的散熱特性,以及插入許多管腳,以便在冷卻件和接線導(dǎo)體之間提供許多孔隙。
近來(lái)由于使用半導(dǎo)體元件的容量變得越來(lái)越大,而且由于要求在較高頻率下對(duì)脈沖寬度加以控制,因此半導(dǎo)體元件產(chǎn)生的熱量也隨之變得越來(lái)越大,為了克服半導(dǎo)體元件所產(chǎn)生的大量熱量,本發(fā)明的目的在于提供了一種汽化冷卻半導(dǎo)體用的改進(jìn)裝置,它能夠提高冷卻效率。
為此目的,本發(fā)明提供了一種汽化冷卻半導(dǎo)體用的裝置,它包括一個(gè)半導(dǎo)體元件,一個(gè)把半導(dǎo)體元件產(chǎn)生的熱量散失到液態(tài)致冷劑中去的冷卻件,以及一個(gè)與冷卻件接觸的接線導(dǎo)體。其中本裝置的特征在于與冷卻件接觸的接線導(dǎo)體表面形成一種非連續(xù)的接觸面,接線導(dǎo)體通過(guò)此面在水平方向上非連續(xù)地接觸冷卻件。
在接線導(dǎo)體借助諸如線性平行縫隙或凹槽非連續(xù)地接觸冷卻件的水平方向的非連續(xù)接觸面中,最好是這些縫隙或凹槽和水平方向之間的角至少是45°
在本發(fā)明的一個(gè)最佳實(shí)施例中,冷卻件有一些直徑大約為0.2mm到0.5mm的小孔,這些小孔在連接半導(dǎo)體和接線導(dǎo)體的方向上穿過(guò)冷卻件,而接線導(dǎo)體包括寬約1.5mm到4mm的縱向縫隙,該縫隙長(zhǎng)度能使這些縫隙從接線導(dǎo)體接觸冷卻件的表面的接觸區(qū)的上端和下端伸出。
圖1是根據(jù)本發(fā)明提供的半導(dǎo)體汽化冷卻裝置的一個(gè)實(shí)施例的側(cè)剖視圖。
圖2是圖1所示裝置的半導(dǎo)體堆的局部放大圖。
圖3是圖1所示裝置的接線導(dǎo)體的透視圖。
圖4是圖1所示裝置的冷卻件的另一個(gè)實(shí)施例的透視圖。
圖5是圖4所示冷卻件的局部放大圖。
圖6是布線導(dǎo)體的另一個(gè)實(shí)施例的透視圖。
圖7是沿著圖6的Ⅶ-Ⅶ線取得的截面。
以下結(jié)合附圖來(lái)敘述本發(fā)明的實(shí)施例。
首先參閱圖1,冷卻器1包含有半導(dǎo)體堆2和液態(tài)致冷劑3。冷凝器4裝配在冷卻器1上面,并裝成使冷凝器4與冷卻器1連通。冷凝器4包括頭部41和42,它們是借助許多冷凝管道43和44相連接的。冷凝管道43和44有一組冷卻散熱片45。冷卻器1和冷凝器4借助連通管5相連接,連通管5起著通路的作用,致冷劑蒸汽31,32和33通過(guò)連通管5向上流動(dòng),而冷凝的致冷劑34,35和36又返回下來(lái)。
半導(dǎo)體堆2包含有半導(dǎo)體元件21和22,冷卻件(熱輻射板)23到26,以及接線導(dǎo)體27到29,它們按圖上箭頭所示的方向壓緊,以這樣的方式層疊在一起。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于株式會(huì)社日立制作所,未經(jīng)株式會(huì)社日立制作所許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買(mǎi)此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/101986000002472/2.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:油緩沖器
- 下一篇:新型無(wú)機(jī)人造大理石組成及其制造方法
- 同類(lèi)專利
- 專利分類(lèi)





