[其他]隙縫輻射照相裝置

在審

• 申請號: 101986000001248
• 申請日: 1986-01-29
• 公開（公告）號: CN86101248B
• 公開（公告）日: 1988-06-01
• 發明（設計）人: 西蒙·杜因克;雨果·弗拉斯布洛姆
• 申請（專利權）人: 德瓦德—代爾夫特光學工業公司
• 代理公司: 中國專利代理有限公司
• 代理人: 林長安

用于隙縫輻射照相的裝置，它包括一個Ｘ射線源和一個隙縫隔板，通過該隔板，一個要檢驗的物體能被一個平面Ｘ射線扇形束所掃描。隙縫隔板有效地與多個并排的舌形衰減元件相配，這些元件的活動端可或大或小地擺入Ｘ射線束中，以便對射線束起局部衰減作用。從Ｘ射線源方向看，舌形衰減元件的縱向中心線向Ｘ射線源方向延伸，并且所有衰減元件的縱向中心線相交于至少一個公共點上。

本發明涉及一種隙縫輻射照相裝置，該裝置包括一個X射線源和一個具有隙縫的隔板，通過該隔板一個要檢驗的物體，能被一束扇形平面X射線所掃描，該隔板有效地與多個并列的舌形衰減元件相聯，這些衰減元件被安置成具有可或大或小地伸入到X射線束的擺動活動端，以便產生局部衰減作用。

這樣的一個裝置在在先荷蘭專利申請84，00845中已作了敘述。

本發明的一個目的是通過提供一個特殊形狀的舌形衰減元件來提高荷蘭專利申請84，00845中所敘述的裝置的性能，采用這種衰減元件的裝置能進一步改善X射線照片的質量，更具體地講，本發明的一個目的是提供這樣一種形狀的舌形衰減元件，它能最佳地避免由于衰減元件形狀所產生的圖象中的如條紋等人為干擾，并能以一種更有效的方法對衰減元件實現衰減控制，為此，根據本發明上述類型的裝置，其特征在于本裝置的每個舌形衰減元件的縱向中心線向X射線源方向延伸，并且所有衰減元件的縱向中心線相交于至少一個共同點上。

下面將參照大量實施例和結合附圖對本發明進行更詳細的說明。附圖中：

圖1是一個例子的頂視圖，簡略示出了一個隙縫輻射照相裝置的舌形衰減元件的第一種結構形狀，該元件與隙縫隔板有效配合工作;

圖2是一個先有技術的舌形衰減元件的形狀簡圖;

圖3至圖9是從圖1所示的結構形狀中大量派生出來的形狀簡圖;

圖10示出了衰減元件四種可能的靜止位置;和

圖11和12分別為根據本發明一種舌形衰減元件的形狀的雙層裝置的頂視和側視圖。

圖1是一個例子的剖面頂視簡圖，舌形衰減元件1-7以懸臂梁方式安裝在在隔板容器8內形成的矩形隙縫S的一條較長邊上。該例子示出了隔板容器的剖面是矩形，隙縫S開在平的前壁上（或隔板上）。但這個壁也可為凸形。

隔板容器的后壁11上開有一個小孔12，與隙縫S相對，隔板容器8是由諸如鉛之類X射線不能穿透的材料制成或包有這類材料。

簡略地由X射線焦點F所表示的一個X射線源安裝于隔板容器8的后面，與小孔12和隙縫S中心相對。因此，采用已知的方法，X射線源能借助于一個扇形平面束B通過小孔12和隙縫S對一個要輻照的物體進行掃描。正如荷蘭專利申請8400845中所述，在掃描期間衰減元件的活動端在適當方式控制下，可以在一個垂直于畫面的平面中可大可小地擺動伸入到X射線束中，以局部地衰減X射線束。

人們知道，事實上，從數學術語的意義講，X射線束并不成一個平面。由于隙縫S的寬度，隨著與X射線源距離的增加，X射線束的厚度也增加了，如圖10所示，隙縫S上部邊沿與X射線源的連線和隙縫S的下部邊沿與X射線源的連線之間有一個夾角α。但是，這個角α是小的，因此在本說明書里X射線束被定義為平面的。

正如荷蘭專利申請8400845中進一步說明的，舌形衰減元件可以是壓電材料條，必要時，這些材料可以另外包上一層衰減X射線的材料，并以懸臂方式安裝固定于隙縫S的一個邊沿上或安裝在一個單獨的支架上。通過在壓電材料條上加適當的電壓，其活動端能可大可小地擺動伸入到X射線束中。為此目的采用菲利浦的稱之為PXE-5的元件是有利的，該元件含有一種鉛化合物，為方便的控制提供了足夠的衰減。

正如荷蘭專利申請8400845中進一步說明的，舌形衰減元件同樣也可以是不同的適合材料，例如，不論是否包有X射線吸收材料的彈性鋼，其活動端的位置可由磁性控制-直接或通過一個中間環節連接的銜鐵控制。

就舌簧呈現沒有彈性或彈性不夠的現象而言，關鍵在舌簧的端部固定到隙縫的邊沿上或能圍繞其端部中點活動的安裝。