[其他]隙縫輻射照相裝置

在審

• 申請號: 101986000001248
• 申請日: 1986-01-29
• 公開（公告）號: CN86101248B
• 公開（公告）日: 1988-06-01
• 發明（設計）人: 西蒙·杜因克;雨果·弗拉斯布洛姆
• 申請（專利權）人: 德瓦德—代爾夫特光學工業公司
• 代理公司: 中國專利代理有限公司
• 代理人: 林長安

1、一個用于隙縫輻射照相的裝置，包括一個X射線源和一個隙縫隔板，通過此隔板一個要被檢驗的物體能被一個平面扇形X射線束所掃描，多個并排的舌形衰減元件安裝于隔板的隙縫上，這些元件被安裝成其活動端可大可小地擺動進入到X射線束中，為的是起到局部衰減作用，其特征在于：所述每個舌形衰減元件的縱向中心線向X射線源方向延伸，并且所有衰減元件的縱向中心線相交于至少一個公共點上。

2、根據權利要求1所述的裝置，其特征在于：衰減元件的縱向中心線與X射線流B的扇形角（2Q）的等分面m相交于X射線源的射線焦點（F）外側的地方。

3、根據權利要求1或2所述的裝置，其特征在于：舌形衰減元件被分成若干組，一個組的各元件的縱向中心線相交于X射線焦點外側的一個點。

4、根據上述權利要求中的一個裝置，其特征在于：其中一個舌形元件是這樣安裝的，以使其縱向中心線延伸在由X射線束的扇形角（2Q）的等分面上，最好元件數為單數。

5、根據上述權利要求1所述的一個裝置，其特征在于：舌形元件對著X射線源的窄邊的寬度大于X射線焦點（F）的尺寸（f）。

6、根據上述權利要求1所述的一個的裝置，其特征在于：舌形衰減元件基本上是矩形的，置于一個中央元件兩側的每個元件組中的每個元件的縱向中心線相交于由各組確定的一個匯聚點上，該匯聚點位于遠離元件并由通過焦點（F）垂直于中央元件縱向中心線的平面為邊界的半個空間內，但在由中央元件縱向邊的延長線所限定的條狀區之外。

7、根據上述權利要求1所述的裝置，其特征在于：舌形衰減元件基本上是矩形的，而且元件的縱向中心線匯聚于一點（C），該點（C）位于遠離元件的X射線束焦點一側的扇形角的等分面上，該點相對于焦點的位置是這樣安置的，以使最外側的兩個元件的內側縱向邊的延長線不與焦點相交。

8、根據權利要求1所述的一個裝置，其特征在于：舌形衰減元件呈楔形，其楔尖指向X射線源，相同組的各個元件的縱向邊的延長線在任何情況下都匯聚于一點（C），該點（C）在位于X射線束扇形角的等分面上的X射線焦點（F）的外側。

9、根據權利要求1所述的一個裝置，其特征在于：舌形衰減元件被分成兩組，一個組的元件與另一組的元件相互交錯，而且一組元件的向著X射線焦點的端部被置于離X射線的距離較另一組相應端部為小。

10、根據權利要求9所述的一個裝置，其特征在于：衰減元件之一組所包含的舌形衰減元件基本上是矩形的，而另一組包含楔形元件，每一對相鄰的楔形和矩形元件的相鄰縱向邊基本上彼此平行延伸。

11、根據權利要求1所述的一個裝置，其特征在于：兩套舌形衰減元件中的每一套元件，從X射線源方向看，形成一個漏斗狀，一套舌形元件被這樣安裝，以使其元件的活動端能從一側擺動到X射線束中，而另一套元件被安裝成：其元件的活動端能從相反的一側擺動到X射線束中。

12、根據權利要求11所述的一個裝置，其特征在于：一套元件具有面向X射線源的活動端，而另一套元件具有背向X射線源方向的活動端。

13、根據權利要求1所述的一個裝置，其特征在于：舌形元件被如此安裝，以致元件在靜止位置時，隔板的隙縫基本上是暴露的。

14、根據權利要求1所述的一個裝置，其特征在于：舌形元件在其處于靜止位置時，至少部分地延伸到通過隔板上隙縫的X射線束中。

15、根據權利要求1所述的一個裝置，其特征在于：舌形元件安裝于一個封裝容器內，該容器內裝有帶有隙縫的隔板，封裝容器的一個壁上開有一個關閉的而能透過X射線的窗口，用來透射通過隔板隙縫的X射線，封裝容器對著第一個指定的壁的壁上包括一個關閉的能透過X射線的窗口，在該窗口的后面安置有X射線源。