[發明專利]濺射裝置、利用濺射的薄膜形成方法、以及使用該裝置的盤形記錄媒體制造方法無效
| 申請號： | 03807718.3 | 申請日： | 2003-04-01 |
| 公開（公告）號： | CN1646723A | 公開（公告）日： | 2005-07-27 |
| 發明（設計）人： | 越川政人;石崎秀樹;渡邊英昭;松井敏 | 申請（專利權）人： | TDK株式會社 |
| 主分類號： | C23C14/34 | 分類號： | C23C14/34;G11B7/26 |
| 代理公司： | 北京市中咨律師事務所 | 代理人： | 吳鵬;馬江立 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 濺射 裝置 利用 薄膜 形成 方法 以及 使用 記錄 媒體 制造 | ||
【權利要求書】：
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