[發(fā)明專利]特定拓?fù)浣Y(jié)構(gòu)的濺射靶無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 02805169.6 | 申請(qǐng)日： | 2002-02-20 |
| 公開(kāi)（公告）號(hào)： | CN1545568A | 公開(kāi)（公告）日： | 2004-11-10 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | E·李 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 霍尼韋爾國(guó)際公司 |
| 主分類號(hào)： | C23C14/34 | 分類號(hào)： | C23C14/34 |
| 代理公司： | 中國(guó)專利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 盧新華;王其灝 |
| 地址： | 美國(guó)新*** | 國(guó)省代碼： | 美國(guó);US |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 特定 拓?fù)?/a> 結(jié)構(gòu) 濺射 | ||
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C23 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制
C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面擴(kuò)散法，化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過(guò)覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面擴(kuò)散法，化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過(guò)覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
- 特定部分姿勢(shì)推測(cè)裝置、特定部分姿勢(shì)推測(cè)方法及特定部分姿勢(shì)推測(cè)程序
- 特定設(shè)備管理系統(tǒng)、特定設(shè)備管理程序以及特定設(shè)備管理方法
- 針對(duì)特定用戶推送特定內(nèi)容的方法
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- 特定機(jī)床夾具
- 特定機(jī)床夾具
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