[發明專利]用于旋轉刻蝕平面化電子部件的平面化層及其使用方法無效
| 申請號： | 02803987.4 | 申請日： | 2002-01-22 |
| 公開（公告）號： | CN1488170A | 公開（公告）日： | 2004-04-07 |
| 發明（設計）人： | S·穆克赫爾吉;J·萊維爾特;D·穆貝爾 | 申請（專利權）人： | 霍尼韋爾國際公司 |
| 主分類號： | H01L23/48 | 分類號： | H01L23/48 |
| 代理公司： | 中國專利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 吳立明;梁永 |
| 地址： | 美國新*** | 國省代碼： | 美國;US |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 用于 旋轉 刻蝕 平面化 電子 部件 及其 使用方法 | ||
【權利要求書】：
下載完整專利技術內容需要扣除積分，VIP會員可以免費下載。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于霍尼韋爾國際公司，未經霍尼韋爾國際公司許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作，請聯系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/02803987.4/1.html，轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
