[發明專利]用于旋轉刻蝕平面化電子部件的平面化層及其使用方法無效
| 申請號： | 02803987.4 | 申請日： | 2002-01-22 |
| 公開（公告）號： | CN1488170A | 公開（公告）日： | 2004-04-07 |
| 發明（設計）人： | S·穆克赫爾吉;J·萊維爾特;D·穆貝爾 | 申請（專利權）人： | 霍尼韋爾國際公司 |
| 主分類號： | H01L23/48 | 分類號： | H01L23/48 |
| 代理公司： | 中國專利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 吳立明;梁永 |
| 地址： | 美國新*** | 國省代碼： | 美國;US |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 用于 旋轉 刻蝕 平面化 電子 部件 及其 使用方法 | ||
【說明書】：
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