[實用新型]紫外消毒系統水位控制裝置

無效

• 申請號: 02203471.4
• 申請日: 2002-02-06
• 公開（公告）號: CN2537036Y
• 公開（公告）日: 2003-02-19
• 發明（設計）人: 陳健;章志強
• 申請（專利權）人: 福建新大陸環保科技有限公司
• 主分類號: G05D9/00
• 分類號: G05D9/00
• 代理公司: 北京集佳專利商標事務所
• 代理人: 宋冬濤

背景技術：

眾所周知，水渠式紫外線消毒系統需要保持一定的水位以保證消毒效果，若水流量增大超過有效的殺菌水位，將會使部分水未經消毒直接排出，影響總體效果，因此需要控制水位使其保持在一定的高度。在現有的紫外線水消毒系統的水渠中，常用的水位控制裝置有兩種形式，一種是裝設單片機系統控制液位，如圖1所示，包含裝設液位傳感器4和液位控制閥門5，系統正常運行即水位不超過液位傳感應器4預設值時，液位控制閥門5關閉；當水量增大超過預設值時，液位傳感器4傳遞信號至單片機控制系統，控制系統發出指令，液位控制閥門5開啟放水，水位恢復正常后，液位控制閥門5關閉。

另一種是在消毒水渠的末端設置過水堰14作為消毒渠道的出水口，并在過水堰14上裝設水壓控制閥門6保持水位，如圖2所示。系統正常運行即水壓在正常值范圍內時，水壓控制閥門(6)關閉，消毒后的水由過水堰頂部排出。當水流量增大時，水壓增大，水壓控制閥門6開啟放水，水壓恢復正常后水壓控制閥門6關閉。另上述兩種方案中，需加設閥門，由水的壓力控制或液位傳感器和單片機系統控制，系統設備多，安裝及維護不方便，且可靠性不高。

實用新型內容

本實用新型的目的是提供一種水位控制裝置，包含消毒水渠、溢流槽架設孔和溢流槽。溢流槽鑲嵌在紫外線消毒系統的燈架后方靠近水渠末端的位置。溢流槽主體為長方體形槽或其他非長方體的形狀。溢流槽的側面開口，作為出水口與消毒系統的出水渠相連。溢流槽的頂面與紫外線消毒系統的最低限位水位在同一水平面或略低于系統的最低限位水位，利用水利學原理使水渠內的水位保持在系統的最高限位水位和最低限位水位之間，達到保持液位的目的。

溢流槽的尺寸、個數和排放位置根據系統最高水位限位高度、系統流量變化范圍和水渠的幾何長度確定。當流量增大使水渠內的水面高于槽的上表面時，高于溢流槽頂面的水越過槽的上表面流入槽中，經槽的出水口排入系統的出水渠，使水流量在設計流量范圍內變化時，水渠內的水位始終保持在系統的最高限位水位H2和最低水位限位之間，達到滿意的殺菌效果。

此裝置與上述現有的紫外線消毒系統中的液位控制裝置相比能可靠保持液位而無需任何電力和附加設備，結構簡單，易維護，運行可靠、安全、節能。

附圖說明：

圖1是裝有壓力控制閥門的消毒系統剖視圖

圖2是裝有單片機控制的消毒系統

圖3是溢流槽結構示意圖

圖4是本實用新型實施例一的消毒系統的平面布置圖

圖5是本實用新型實施例一的消毒系統的A-A向視圖

圖6是本實用新型實施例一的消毒系統B-B向視圖

圖7a是本實用新型實施例二的平面布置圖

圖7b是本實用新型實施例二的剖視圖

圖8是本實用新型實施例二的消毒系統C-C向視圖

圖中1為電控柜，2為消毒水渠，3為紫外燈架，4為液位傳感器，5為液位控制閥門，6水壓控制閥門7為溢流槽，8為溢流槽出水口，9為出水渠，10為格柵，11為閥門，12為溢流槽架設孔，13為溢流槽架設板，14為過水堰。H1為消毒水渠頂面，H2為最高水位限位，H3為系統最低水位限位，H4為溢流槽頂面，最高水位限位H2略高于溢流槽的頂面。

具體實施方式：

本實用新型有兩種實施例。

實施例一如圖4。在消毒水渠2的兩個側壁上開孔作為溢流槽架設孔12，一側或兩側的開孔開成通孔作為出水口，在紫外消毒燈架3的后方沿水流方向架設若干個溢流槽7，溢流槽7的出水口8延伸至溢流槽架設孔12的外壁，溢流槽7的出水排至出水渠9后排出。

實施例二中如圖7和圖8所示，溢流槽7架設在水渠內，在水渠的兩個側壁和水渠的末端開孔作為溢流槽架設孔12，溢流槽架設板13架設在消毒渠側壁的溢流槽架設孔12上，用于支撐溢流槽7。溢流槽7在紫外燈架3的后方沿水渠方向架設在溢流槽架設板13上，溢流槽7的末端架設在消毒渠末端的溢流槽架設孔12中，消毒渠末端的溢流槽架設孔12開成通孔用于出水。