[實用新型]紫外消毒系統水位控制裝置無效
| 申請號： | 02203471.4 | 申請日： | 2002-02-06 |
| 公開（公告）號： | CN2537036Y | 公開（公告）日： | 2003-02-19 |
| 發明（設計）人： | 陳健;章志強 | 申請（專利權）人： | 福建新大陸環保科技有限公司 |
| 主分類號： | G05D9/00 | 分類號： | G05D9/00 |
| 代理公司： | 北京集佳專利商標事務所 | 代理人： | 宋冬濤 |
| 地址： | 350005 福建省福*** | 國省代碼： | 福建;35 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 紫外 消毒 系統 水位 控制 裝置 | ||
【權利要求書】：
1、一種紫外消毒系統水位控制裝置，其特征在于：包含消毒水渠(2)、溢流槽架設孔(12)和溢流槽(7)，溢流槽(7)架設在紫外燈架(3)后方靠近消毒水渠(2)末端的位置。兼做消毒系統的出水口。
2、如權利要求1所述的紫外消毒系統水位控制裝置，其特征在于：溢流槽(7)的頂面與紫外線消毒系統的最低限位水位H3在同一水平面或略低于系統的最低限位水位H3，溢流槽(7)的側面開口，作為出水口與消毒系統的出水渠(9)相連。
3、如權利要求1所述的紫外消毒系統水位控制裝置，其特征在于：溢流槽(7)為長方體形槽或其他非長方體的形狀。
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