[發(fā)明專利]正片型感光性抗蝕劑組合物及其用途無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 02141379.7 | 申請日: | 2002-07-09 |
| 公開(公告)號(hào): | CN1397841A | 公開(公告)日: | 2003-02-19 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 田原修二;柴原立子;森田守次;山本喜博;小野一良 | 申請(專利權(quán))人: | 三井化學(xué)株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào): | G03F7/00 | 分類號(hào): | G03F7/00;G03F7/039 |
| 代理公司: | 北京銀龍專利代理有限公司 | 代理人: | 閻娬斌 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 正片 感光性 抗蝕劑 組合 及其 用途 | ||
1.一種正片型感光性抗蝕劑組合物,其特征在于,含有具有至少一個(gè)二氯乙酰基的化合物作為酸發(fā)生劑。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的正片型感光性抗蝕劑組合物,其特征在于,具有至少一個(gè)二氯乙酰基的化合物由下述通式(1)表示:
【化1】式(1)中,R1、R2、R3、R5表示從氫原子、鹵素原子、氰基、碳數(shù)1~3的直鏈或分支的無取代烷基、由羥基取代的碳數(shù)1~3的直鏈或分支的烷基及苯基中選擇的取代基,R4表示從氫原子、鹵素原子、氰基、碳數(shù)1~3的直鏈或分支的無取代烷基、由羥基取代的碳數(shù)1~3的直鏈或分支的烷基、苯基及二氯乙酰基中選擇的取代基,X表示從O、S、CH2、C(CH3)2、C=O中選擇的2價(jià)的連結(jié)基。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的正片型感光性抗蝕劑組合物,其特征在于,還含有酸感應(yīng)性共聚物,該酸感應(yīng)性共聚物含由下述通式(2)表示的第1構(gòu)成單位:
【化2】由下述通式(3)表示的第2構(gòu)成單位:
【化3】式(3)中,R6表示氫原子或甲基,R7表示碳數(shù)1~6的直鏈或分支的無取代烷基、由羥基取代的碳數(shù)1~6的直鏈或分支的烷基、由鹵素原子取代的碳數(shù)1~6的直鏈或分支的烷基、由氰基取代的碳數(shù)1~6的直鏈或分支的烷基或由二烷基氨基取代的碳數(shù)1~6的直鏈或分支的烷基;和由下述通式(4)表示的第3構(gòu)成單位:
【化4】式(4)中,R8表示氫原子或甲基,R9表示氫原子、鹵素原子或碳數(shù)1~6的直鏈或分支的無取代烷基,Z表示氫原子、碳數(shù)1~6的直鏈或分支的無取代烷基或碳數(shù)1~6的直鏈或分支的取代烷基,Y表示碳數(shù)1~6的直鏈或分支的無取代烷基或碳數(shù)1~6的直鏈或分支的取代烷基,Y和Z也可以結(jié)合形成環(huán)結(jié)構(gòu),a,b,c表示摩爾組成比,合計(jì)為1。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的正片型感光性抗蝕劑組合物,其特征在于,由上述通式(1)表示的第1構(gòu)成單位的組成比a是0.05~0.3,由上述通式(2)表示的第2構(gòu)成單位的組成比b是0.5~0.9,由上述通式(3)表示的第3構(gòu)成單位的組成比c是0.01~0.4,三個(gè)構(gòu)成單位的組成比的總和為1。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的正片型感光性抗蝕劑組合物,其特征在于,上述酸感應(yīng)性共聚物是將含有以各自摩爾比的合計(jì)為1摩爾為條件含0.05~0.3摩爾份數(shù)的4-(1-甲基乙烯基)苯酚、0.5~0.9摩爾份數(shù)的由以下通式(5)表示的(甲基)丙烯酸酯類:
【化5】式中,R6表示氫原子或甲基,R7表示碳數(shù)1~6的直鏈或分支的無取代烷基、由羥基取代的碳數(shù)1~6的直鏈或分支的烷基、由鹵素原子取代的碳數(shù)1~6的直鏈或分支的烷基、由氰基取代的碳數(shù)1~6的直鏈或分支的烷基或由二烷基氨基取代的碳數(shù)1~6的直鏈或分支的烷基;和0.01~0.4摩爾份數(shù)的由以下通式(6)表示的(甲基)丙烯酸烷氧基烷基酯類而組成的單體混合物:
【化6】式中,R8表示氫原子或甲基,R9表示氫原子、鹵素或碳數(shù)1~6的直鏈或分支的無取代烷基,Z表示氫原子、碳數(shù)1~6的直鏈或分支的無取代烷基或碳數(shù)1~6的直鏈或分支的取代烷基,Y表示碳數(shù)1~6的直鏈或分支的無取代烷基或碳數(shù)1~6的直鏈或分支的取代烷基,Y和Z也可以結(jié)合形成環(huán)結(jié)構(gòu);
和自由基聚合引發(fā)劑,
和溶劑而構(gòu)成的共聚物原料進(jìn)行加熱得到的共聚物。
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G03F7-00 圖紋面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工藝;圖紋面照相制版用的材料,如:含光致抗蝕劑的材料;圖紋面照相制版的專用設(shè)備
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