[發(fā)明專利]非導(dǎo)電長波熱輻射防護(hù)屏

無效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 02140308.2
• 申請(qǐng)日: 2002-06-20
• 公開（公告）號(hào): CN1394548A
• 公開（公告）日: 2003-02-05
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: D·E·迪安;D·J·魏爾斯
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: GE醫(yī)療系統(tǒng)環(huán)球技術(shù)有限公司
• 主分類號(hào): A61B5/055
• 分類號(hào): A61B5/055;G01R33/20;B32B33/00
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司
• 代理人: 楊凱,張志醒

1.一種用于磁共振成像系統(tǒng)的熱輻射防護(hù)屏，它包括：

第一涂層；

第二涂層；

設(shè)置在所述第一涂層和所述第二涂層之間的熱屏蔽層；

其中所述熱輻射防護(hù)屏具有非干擾性電特性。

2.如權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其特征在于：所述第一涂層或所述第二涂層包括涂料。

3.如權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其特征在于：所述第一涂層或所述第二涂層是紅外反射型的。

4.如權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其特征在于：所述第一涂層或所述第二涂層包含金屬粉末。

5.如權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其特征在于：所述第一涂層或所述第二涂層包括金屬跡線圖案。

6.如權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其特征在于：所述第一涂層或所述第二涂層包括多個(gè)非金屬薄膜層。

7.如權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其特征在于：所述熱屏蔽層包括多個(gè)熱層。

8.一種磁共振成像系統(tǒng)，它包括：

射頻(RF)線圈；

磁梯度線圈組件；以及

設(shè)置在所述RF線圈和所述磁梯度線圈組件之間的包含多層的熱輻射防護(hù)屏。

9.如權(quán)利要求8所述的系統(tǒng)，其特征在于所述熱輻射防護(hù)屏包括：

第一涂層；

第二涂層；

設(shè)置在所述第一涂層和所述第二涂層之間的熱屏蔽層。

10.如權(quán)利要求9所述的系統(tǒng)，其特征在于：所述第一涂層或所述第二涂層包括涂料。

11.如權(quán)利要求9所述的系統(tǒng)，其特征在于：所述第一涂層或所述第二涂層是紅外反射型的。

12.如權(quán)利要求9所述的系統(tǒng)，其特征在于：所述第一涂層或所述第二涂層包含金屬粉末。

13.如權(quán)利要求9所述的系統(tǒng)，其特征在于：所述第一涂層或所述第二涂層包括金屬跡線圖案。

14.如權(quán)利要求9所述的系統(tǒng)，其特征在于：所述第一涂層或所述第二涂層包括多個(gè)非金屬薄膜層。

15.如權(quán)利要求9所述的系統(tǒng)，其特征在于：所述熱屏蔽層包括多個(gè)熱層。

16.一種制造設(shè)置在第一表面和第二表面之間的熱輻射防護(hù)屏的方法，所述方法包括以下步驟：

在所述第一表面涂敷第一涂層；

在所述第二表面涂敷第二涂層；

在所述第一涂層和所述第二涂層之間設(shè)置熱屏蔽層。

17.一種按照權(quán)利要求16的方法形成的熱輻射防護(hù)屏。