[發(fā)明專利]顯象處理裝置

無效

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• 申請日: 2002-06-07
• 公開（公告）號: CN1391128A
• 公開（公告）日: 2003-01-15
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 宮崎一仁;佐田徹也
• 申請（專利權(quán)）人: 東京毅力科創(chuàng)株式會社
• 主分類號: G02F1/133
• 分類號: G02F1/133;B05B1/00
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司
• 代理人: 胡強,楊松齡

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一邊水平輸送被處理基片一邊進行一系列顯象處理工序的顯象處理裝置。

背景技術(shù)

最近，在LCD(液晶顯示器)制造的抗蝕劑涂敷顯象處理系統(tǒng)中，作為有利地對應(yīng)于LCD基片大型化的顯象方式地，在水平方向鋪設(shè)輸送滾輪和傳送帶而構(gòu)成的基片輸送通路上，一邊輸送LCD基片，一邊在輸送中進行顯象、沖洗、干燥等一系列顯象處理工序的所謂平流方式引起了人們注意。這種平流方式與使基片旋轉(zhuǎn)運動的旋轉(zhuǎn)方式相比，基片的處理和輸送系統(tǒng)以及驅(qū)動系統(tǒng)的構(gòu)成較為簡單，存在著發(fā)生煙霧和向基片的再附著少等優(yōu)點。

在過去的平流方式中，在基片輸送通路中的預(yù)定位置上，分別固定配置顯象液供給噴嘴和沖洗液供給噴嘴，當(dāng)基片通過各噴嘴旁邊(通常是正下方)時，各噴嘴噴出處理液(顯象液、沖洗液)，將處理液供給基片的被處理面。當(dāng)把在輸送方向的基片長度設(shè)定為L、輸送速度設(shè)定為V時，給1個基片的整個被處理面供應(yīng)處理液所需的時間(處理液供給時間)T可由下式概算：

???T＝L/V????????????……(1)

由(1)式可見，基片尺寸(L)越大，處理液供給時間T越長，這是顯象處理工序中比較麻煩的問題。就是說，在平流方式中，處理液供給時間T是在基片輸送方向的一端部(前端部)和其它部(后端部)之間接受處理液供給的時間差，當(dāng)處理液是顯象液時，即為顯象開始的時間差。該時間差(T)越大，基片上的顯象質(zhì)量越不一致，存在面內(nèi)均勻性降低的問題。

針對這個問題，過去發(fā)展了提高輸送速度V的方法，然而在平流方式中，輸送速度V是有限度的，并且輸送速度很高時，基片在輸送途中受損的可能性越大，這不是一個有效的解決辦法。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明是針對上述已有技術(shù)的問題而研制的，它提供了一種在水平方向敷設(shè)的輸送通路中一邊輸送被處理基片一邊快速高效地進行顯象處理的顯象處理裝置。

本發(fā)明的另一目的是提供一種在水平方向敷設(shè)的輸送通路中一邊輸送被處理基片一邊高質(zhì)量地進行顯象處理的顯象處理裝置。

為達到上述目的，本發(fā)明的顯象處理裝置具有：水平鋪設(shè)用于大致水平地裝載并輸送被處理基片的輸送部件而形成的輸送通路；為在上述輸送通路上輸送該基片而驅(qū)動上述輸送部件的輸送驅(qū)動機構(gòu)；具有一個或多個用于向在上述輸送通路上的該基片的被處理面供給顯象處理用預(yù)定處理液的噴嘴的處理液供給機構(gòu)；作為活動噴嘴地使上述處理液供給機構(gòu)的至少一個噴嘴沿上述輸送通路移動的噴嘴掃描機構(gòu)。

在上述構(gòu)成中，處理液供給機構(gòu)的活動噴嘴一邊通過噴嘴掃描機構(gòu)向在輸送通路中輸送的被處理基片噴出處理液，一邊沿輸送通路移動或掃描，由此一來，實質(zhì)上不受基片輸送速度和基片尺寸的影響并可快速地將處理液供給基片的整個被處理面。

在本發(fā)明的顯象處理裝置中，一個優(yōu)選實施形式噴嘴掃描機構(gòu)具有：支持活動噴嘴的噴嘴支持部；在輸送通路的上方引導(dǎo)噴嘴支持部的導(dǎo)向部；驅(qū)動沿該導(dǎo)向部移動的噴嘴支持部的驅(qū)動部。在這種結(jié)構(gòu)的情況下，能使活動噴嘴與噴嘴支持部一體地穩(wěn)定地高速移動。而且，使噴嘴升降的機構(gòu)被設(shè)置在噴嘴支持部上，由此可以調(diào)節(jié)或改變活動噴嘴的高度位置。

另外，通過用罩覆蓋在輸送通路上的活動噴嘴的可移動空間，由此形成外部異物難以進入罩內(nèi)的正常處理空間。

在本發(fā)明的顯象處理裝置中，作為基本形式地可以設(shè)置：沿輸送通路將顯象液供給基片被處理面并進行顯象的顯象部；在該顯象部的下游側(cè)將純水供給基片被處理面并停止顯象的沖洗部。在這種情況下，在顯象部內(nèi)設(shè)置收集落在輸送通路下面的液體的第一集液部，在沖洗部內(nèi)設(shè)置收集落在輸送通路下面的液體的第二集液部。

根據(jù)本發(fā)明的一個實施例中，處理液供給機構(gòu)具有在顯象部內(nèi)將顯象液噴射在基片被處理面上的第一活動噴嘴，該噴嘴掃描機構(gòu)具有至少在顯象部的區(qū)域內(nèi)沿輸送通路使該第一活動噴嘴移動的第一噴嘴掃描部。采用這種結(jié)構(gòu)，可以按照本發(fā)明的噴嘴掃描方式快速高效地進行噴霧式顯象工序并能得到良好的顯象質(zhì)量。

根據(jù)本發(fā)明的另一個實施例，處理液供給機構(gòu)包含在顯象部內(nèi)使顯象液覆滿基片被處理面的第二活動噴嘴，該噴嘴掃描機構(gòu)包含至少在顯象部區(qū)域內(nèi)沿搬送通路使該第二活動噴嘴移動的第二噴嘴掃描部。采用這種構(gòu)成，可以按照本發(fā)明的噴嘴掃描方式快速高效地進行葉片式顯象工序并能得到良好的顯象質(zhì)量。