[發明專利]顯象處理裝置

無效

• 申請號: 02126281.0
• 申請日: 2002-06-07
• 公開（公告）號: CN1391128A
• 公開（公告）日: 2003-01-15
• 發明（設計）人: 宮崎一仁;佐田徹也
• 申請（專利權）人: 東京毅力科創株式會社
• 主分類號: G02F1/133
• 分類號: G02F1/133;B05B1/00
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司
• 代理人: 胡強,楊松齡

1、一種顯象處理裝置，它具有：

水平鋪設用于大致水平地裝載并輸送被處理基片的輸送部件而形成的輸送通路；

為在上述輸送通路上輸送該基片而驅動上述輸送部件的輸送驅動機構；

具有一個或多個用于向在上述輸送通路上的該基片的被處理面供給顯象處理用預定處理液的噴嘴的處理液供給機構；

作為活動噴嘴地使上述處理液供給機構的至少一個噴嘴沿上述輸送通路移動的噴嘴掃描機構。

2、如權利要求1所述的顯象處理裝置，其中該處理液供給部的活動噴嘴具有在該輸送通路寬度方向上以一定間隔設置的多個噴口。

3、如權利要求1或2所述的顯象處理裝置，其中該噴嘴掃描部具有：支持該活動噴嘴的噴嘴支持部；在該輸送通路上方引導該噴嘴支持部的導向部；驅動該噴嘴支持部沿該導向部移動的驅動部。

4、如權利要求1所述的顯象處理裝置，其中它具有為調節或改變該活動噴嘴的高度位置而使上述活動噴嘴升降的噴嘴升降機構。

5、如權利要求1所述的顯象處理裝置，其中它具有覆蓋在上述輸送通路上的該活動噴嘴可移動的空間的罩。

6、如權利要求1所述的顯象處理裝置，其中它設有：沿該輸送通路給該基片的被處理面供應顯象液并進行顯象的顯象部；在該顯象部的下游向該基片的被處理面供應純水并停止顯象的沖洗部。

7、如權利要求6所述的顯象處理裝置，其中它具有：在上述顯象部內收集落在該輸送通路下面的液體的第一集液部；在該沖洗部內收集落在上述輸送通路下面的液體的第二集液部。

8、如權利要求6所述的顯象處理裝置，其中上述處理液供給機構包含在上述顯象部內向該基片的被處理面噴射顯象液的第一活動噴嘴；該噴嘴掃描機構具有至少在上述顯象部的區域內沿上述輸送通路使該第一活動噴嘴移動的第一噴嘴掃描部。

9、如權利要求6記載的顯象處理裝置，其中上述處理液供給機構具有在上述顯象部內在該基片被處理面上覆滿顯象液的第二活動噴嘴；該噴嘴掃描機構具有至少在上述顯象部的區域內沿該輸送通路使該第二活動噴嘴移動的第二噴嘴掃描部。

10、如權利要求6所述的顯象處理裝置，其中上述處理液供給機構具有在上述顯象部內在顯象前向該基片的被處理面噴射預淋濕用處理液的第三活動噴嘴；上述噴嘴掃描機構包含至少在上述顯象部區域內沿上述輸送通路使上述第三活動噴嘴移動的第三噴嘴掃描部。

11、如權利要求6所述的顯象處理裝置，其中上述處理液供給機構包含向上述沖洗部內在上述基片的被處理面噴射沖洗液的第四活動噴嘴；上述噴嘴掃描機構包含至少在上述沖洗部區域內沿上述輸送通路使上述第四活動噴嘴移動的第四噴嘴掃描部。

12、如權利要求1所述的顯象處理裝置，其中它在上述輸送通路上具有傾斜上述基片以使處理液依靠重力從上述基片上落下的基片傾斜機構。

13、如權利要求12所述的顯象處理裝置，其中上述基片傾斜機構使上述基片向著該輸送通路的前方或后方傾斜。

14、如權利要求12所述的顯象處理裝置，其中上述基片傾斜機構包括傾斜上述基片以使顯象所用的顯象液靠重力從上述基片上落下的第一基片傾斜部。

15、如權利要求11所述的顯象處理裝置，其中上述基片傾斜機構包括傾斜上述基片以使預淋濕所用的處理液靠重力從上述基片上落下的第二基片傾斜部。

16、如權利要求1所述的顯象處理裝置，其中它具有使預定物理力沿上述基片表面在水平方向上相對移動以便在上述輸送通路上從呈水平姿勢的該基片上除去處理液的處理液除去機構。

17、如權利要求16所述的顯象處理裝置，其中上述處理液除去機構具有在第一位置上向該基片表面噴銳利氣流以便從在上述輸送通路上輸送的上述基片上掃落顯象所用的顯象液的氣體噴射機構。

18、如權利要求16所述的顯象處理裝置，其中上述處理液除去機構具有在第二位置上向述基片表面噴銳利氣流以便從在上述輸送通路上輸送的該基片上掃落停止顯象所用的沖洗液的氣體噴射機構。