[發明專利]真空成膜裝置

無效

• 申請號: 02107382.1
• 申請日: 2002-03-19
• 公開（公告）號: CN1385554A
• 公開（公告）日: 2002-12-18
• 發明（設計）人: 岡本浩一;福田祥慎
• 申請（專利權）人: 新明和工業株式會社
• 主分類號: C23C14/56
• 分類號: C23C14/56
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所
• 代理人: 楊梧,馬高平

1、一種真空成膜裝置，包括用于保持內部空間的真空氛圍氣的成膜用真空腔和為輔助成膜而在所述真空腔內使用的輔助器具，其特征在于，

所述輔助器具通過設于所述真空腔的開口部跨所述真空腔的內外而設置，固定于所述真空腔外設置的靜止結構件上，同時，通過由可維持所述真空腔內的真空氛圍氣的材質形成并具有彈性的連接部件安裝在所述真空腔上。

2、如權利要求1所述的真空成膜裝置，其特征在于，所述連接部件是波紋管，以使所述輔助器具和所述開口部之間密封的方式設置。

3、如權利要求1或2所述的真空成膜裝置，其特征在于，所述輔助器具是基板架、用于檢測膜厚的膜厚傳感器、用于調節膜厚的膜厚調節板、用于蒸發膜的原料的蒸發源及用于檢測要成膜的基板的溫度的溫度傳感器中的任何一個或多個。

4、一種真空成膜裝置，其特征在于，包括：真空腔，其內部空間形成真空氛圍氣；蒸發源，用于蒸發配置在真空腔內的膜的原料；基板架，通過真空腔的開口將表面上形成膜的基板以使所述表面面朝真空腔中心的方式支承在真空腔內的空間中；光監測器投光部，固定在真空腔外部的靜止結構件上，自真空腔的外部向所述基板照射光；光監測器受光部，固定在真空腔外部的靜止結構件上，接收來自所述基板的光，所述基板架固定在所述真空腔外部的靜止結構件上，同時，通過由具有彈性且可保持內側的真空氛圍氣的材質形成的緩沖裝置安裝在真空腔上。

5、如權利要求4所述的真空成膜裝置，其特征在于，所述光監測器受光部一體組裝在覆蓋所述基板架的罩的內側，且配設于基板架支承的所述基板的表面的背面側，所述光監測器投光部和光監測器受光部夾著真空腔中心相對設置。

6、如權利要求4或5所述的真空成膜裝置，其特征在于，所述緩沖裝置是波紋管，所述基板架與所述波紋管的一端側一起固定在所述真空腔外部的靜止結構件上，且所述波紋管的另一端側安裝在所述真空腔的開口的周邊。