[發明專利]真空成膜裝置

無效

• 申請號: 02107382.1
• 申請日: 2002-03-19
• 公開（公告）號: CN1385554A
• 公開（公告）日: 2002-12-18
• 發明（設計）人: 岡本浩一;福田祥慎
• 申請（專利權）人: 新明和工業株式會社
• 主分類號: C23C14/56
• 分類號: C23C14/56
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所
• 代理人: 楊梧,馬高平

?????????????????????????技術領域

本發明涉及真空成膜裝置。

?????????????????????????背景技術

通常真空成膜裝置是將蒸發源配置在真空腔內，將蒸發源蒸發的膜的原料作為膜析出在支承于真空腔內的基板表面進行成膜。配置所述蒸發源、支承基板的真空腔內部的空間為了使膜的原料蒸發并在基板上形成膜，利用真空泵等排氣裝置形成規定壓力的真空氛圍氣。

形成膜的基板由安裝在真空腔的基板架支承。該基板架通過設在真空腔的被稱作孔的開口安裝在所述真空腔中，其結果，所述基板在真空腔內的空間中由基板架支承。

這樣，在真空腔設有蒸發源和基板架，另外，還設有用于光學檢測形成于基板上的膜厚的光監測器(膜厚傳感器)、用于調節膜厚的膜厚調節板(以下稱補正板)及用于檢測成膜時基板的溫度的溫度傳感器等真空腔內進行成膜時所用的各種輔助器具。

另外，所述光監測器自光監測器投光部向基板照射光，由光監測器受光部檢測通過基板的光或由基板反射的光，從而測定形成于基板的膜厚，檢測是否形成了作為目標的膜。

這里，當利用排氣裝置排出所述真空腔內部的空間的空氣，使壓力下降時，在內部和外部之間會產生壓力差，該壓力差有時會使真空腔產生變形。

在真空腔產生變形的情況下，安裝在真空腔的基板架、光監測器投光部和光監測器受光部的相對位置關系會產生偏移，使光監測器的光軸產生偏移，不能高精度地利用光監測器進行膜的測定。

同樣，在真空腔產生變形的情況下，蒸發源、補正板、溫度傳感器等相對于基板的相對位置關系也會產生偏移。在蒸發源和基板之間的相對位置關系產生了偏移時，蒸發源蒸發的膜的原料的膜厚分布就會發生變化。同樣，在補正板和基板之間的相對位置關系產生偏移時，就會對膜厚的均一化帶來障礙。在溫度傳感器和基板之間的相對位置關系產生偏移時，就不能正確測定作為重要的成膜條件之一的基板溫度。

這樣，真空腔的變形引起的在各種輔助器具間產生的相對位置偏移，會在成膜時帶來各種障礙，有礙高精度的成膜。

因此，在現有真空成膜裝置中，在真空腔中設置有基板架、光監測器投光部及光監測器受光部的部位及安裝有其他輔助器具的部位，通過特別加厚腔壁的壁厚或配置特殊的加強部件等形成不產生變形的結構。

但是，對真空腔采用上述特殊結構會導致真空腔結構的復雜化及真空腔的大型化，甚至導致成膜裝置制造成本的增加。

????????????????????????發明內容

本發明的目的在于，提供一種真空成膜裝置，不會降低光監測器對膜的測定精度等，不會因真空腔產生的變形對成膜產生影響，不會導致真空腔結構的復雜化等。

本發明是鑒于上述問題而開發的，本發明的真空成膜裝置包括用于保持內部空間的真空氛圍氣的成膜用真空腔和為輔助成膜而在所述真空腔內使用的輔助器具，所述輔助器具通過設于所述真空腔的開口部跨所述真空腔的內外而設置，固定于所述真空腔外設置的靜止結構件上，同時，通過由可維持所述真空腔內的真空氛圍氣的材質形成并具有彈性的連接部件安裝在所述真空腔上。

通過采用這種結構，所述輔助器具即使在真空腔產生變形的情況下，該變形對所述輔助器具的絕對位置(例如以靜止結構件為基準的位置)帶來影響的變位也由所述連接部件吸收，可在所述輔助器具的絕對位置不變位的情況下，高精度地使用膜厚傳感器、膜厚調節板、蒸發源及溫度傳感器等輔助器具進行成膜。

本發明中所述連接部件是波紋管，以使所述輔助器具和所述開口部之間密封的方式設置。

這樣，通過用波紋管作為所述連接部件，可使用于連接輔助器具和真空腔的結構采用簡單的結構，可可靠地維持真空腔內的真空氛圍氣。

本發明中所述輔助器具是基板架、用于檢測膜厚的膜厚傳感器、用于調節膜厚的膜厚調節板、用于蒸發膜的原料的蒸發源及用于檢測要成膜的基板的溫度的溫度傳感器中的任何一個或多個。