[發明專利]基板的化學機械拋光裝置和方法無效
| 申請號： | 01815145.0 | 申請日： | 2001-07-31 |
| 公開（公告）號： | CN1460042A | 公開（公告）日： | 2003-12-03 |
| 發明（設計）人： | 賈森·梅爾文;納姆·P·祖;伊拉里奧·L·奧 | 申請（專利權）人： | ASML美國公司;麻省理工學院 |
| 主分類號： | B24B1/00 | 分類號： | B24B1/00;B24B5/00 |
| 代理公司： | 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 | 代理人： | 張金熹 |
| 地址： | 美國加利*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 化學 機械拋光 裝置 方法 | ||
【說明書】：
下載完整專利技術內容需要扣除積分，VIP會員可以免費下載。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于ASML美國公司;麻省理工學院，未經ASML美國公司;麻省理工學院許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作，請聯系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/01815145.0/2.html，轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇：氟化和烷基化糖醇衍生物及含有該物質的聚烯烴制品
- 下一篇：鞏膜夾及其使用方法
