[發(fā)明專利]基板的化學機械拋光裝置和方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 01815145.0 | 申請日： | 2001-07-31 |
| 公開（公告）號： | CN1460042A | 公開（公告）日： | 2003-12-03 |
| 發(fā)明（設計）人： | 賈森·梅爾文;納姆·P·祖;伊拉里奧·L·奧 | 申請（專利權(quán)）人： | ASML美國公司;麻省理工學院 |
| 主分類號： | B24B1/00 | 分類號： | B24B1/00;B24B5/00 |
| 代理公司： | 中國國際貿(mào)易促進委員會專利商標事務所 | 代理人： | 張金熹 |
| 地址： | 美國加利*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 化學 機械拋光 裝置 方法 | ||
【權(quán)利要求書】：
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