[發(fā)明專利]具有反應(yīng)副產(chǎn)物沉積防止裝置的排氣管和沉積防止方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 01804980.X | 申請日: | 2001-02-14 |
| 公開(公告)號: | CN1401014A | 公開(公告)日: | 2003-03-05 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 駒井哲夫;野村典彥 | 申請(專利權(quán))人: | 株式會社荏原制作所 |
| 主分類號: | C23C16/455 | 分類號: | C23C16/455;H01L21/31 |
| 代理公司: | 中國國際貿(mào)易促進(jìn)委員會專利商標(biāo)事務(wù)所 | 代理人: | 陳昕 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 具有 反應(yīng) 副產(chǎn)物 沉積 防止 裝置 排氣管 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及用于使半導(dǎo)體制造裝置等真空室成為真空的真空排氣系統(tǒng)的排氣管,尤其涉及設(shè)有防止反應(yīng)副產(chǎn)物沉積在內(nèi)表面上的裝置的排氣管,以及防止反應(yīng)副產(chǎn)物沉積到排氣管內(nèi)表面上的方法。
背景技術(shù)
減壓化學(xué)氣相沉積裝置(CVD)具有石英管反應(yīng)爐(真空室),真空泵通過金屬制成的排氣管連接到該反應(yīng)爐。這樣,尤其在減壓化學(xué)氣相沉積裝置中,由于在氧化膜、氮化膜的形成過程等產(chǎn)生大量的反應(yīng)副產(chǎn)物。因此,由于反應(yīng)副產(chǎn)物造成的污染,容易造成真空泵在短時間內(nèi)就不能工作,為了避免這種情況,需要定期清洗,降低了該裝置的運(yùn)轉(zhuǎn)率,這就成為問題。
為了防止由于反應(yīng)副產(chǎn)物污染造成真空泵不能工作,已經(jīng)開發(fā)出設(shè)置在反應(yīng)爐和真空泵之間的排氣管中的各種吸塵罩,這在某種程度上是有效的。但是,在反應(yīng)爐和吸塵罩之間的排氣管中仍然存在反應(yīng)副產(chǎn)物向該排氣管內(nèi)表面沉積的問題。作為對策是在排氣管外表面上纏繞加熱用加熱器,通過加熱排氣管,防止反應(yīng)副產(chǎn)物的凍結(jié)沉積。
但是,在現(xiàn)有方法中,加熱器的熱跑到大氣中,因此不能有效提高排氣管溫度。尤其在氧化膜的形成過程中,反應(yīng)副產(chǎn)物的升華溫度高,反應(yīng)副產(chǎn)物的產(chǎn)生量也多,因此不能達(dá)到完全防止反應(yīng)副產(chǎn)物沉積的效果。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于解決上述問題,通過在連接真空室和真空泵之間的排氣管中設(shè)置反應(yīng)副產(chǎn)物沉積防止裝置,避免反應(yīng)副產(chǎn)物在該排氣管內(nèi)沉積堆積,消除定期維護(hù)的必要性,可提高半導(dǎo)體制造裝置的運(yùn)轉(zhuǎn)率。
即,本發(fā)明提供一種排氣管,其特征在于,具有在內(nèi)部有排氣通路的內(nèi)筒、在該內(nèi)筒外側(cè)留有空隙而設(shè)置的外筒、和附接到內(nèi)筒上的加熱裝置,上述空隙與上述排氣通路連通
由于空隙與排氣通路連通,在排氣時,不僅使該排氣通路處于真空狀態(tài),而且空隙也處于真空狀態(tài),因此,可抑制熱從設(shè)在其內(nèi)部的加熱裝置釋放到外部,可有效加熱內(nèi)筒,從而可防止包含在排氣中的反應(yīng)副產(chǎn)物等凍結(jié)堆積在內(nèi)筒內(nèi)表面。
作為一個實(shí)施例,使內(nèi)筒比外筒短,在內(nèi)筒的上游端連接到外筒,在下游端形成用于將上述空隙與排氣通路連通的連通口。此外,也可在其下游端將內(nèi)筒連接到外筒,將連通口設(shè)置在上游側(cè)。
另外,通過沿著內(nèi)筒的內(nèi)壁表面形成惰性氣體或氮?dú)鈱?,可更有效她防止上述凍結(jié)沉積。作為這種情況的具體實(shí)施例,使惰性氣體等的導(dǎo)入口和上述空隙不連通,設(shè)計為使外筒和內(nèi)筒在上游端貫通而將上述惰性氣體等導(dǎo)入排氣通路內(nèi)。另外,也可以將氣體導(dǎo)入口設(shè)置在外筒下游端并和上述空隙連通,上述惰性氣體等可通過上述空隙和連通口導(dǎo)入排氣通路內(nèi)。這種情況下,從加熱裝置向外部擴(kuò)散的熱由通過空隙的惰性氣體吸收,除了可通過該氣體達(dá)到防止反應(yīng)副產(chǎn)物沉積的效果以外,由于氣體沿著內(nèi)筒表面流動,可有效加熱內(nèi)筒表面。
作為另一個實(shí)施例,內(nèi)筒和外筒的長度大致相同,它們在兩端連接的同時,在外筒上設(shè)置和上述空隙連通的氣體導(dǎo)入口,內(nèi)筒由多孔材料構(gòu)成,導(dǎo)入上述空隙中的惰性氣體通過內(nèi)筒的多個孔噴到上述排氣通路內(nèi),由此,防止反應(yīng)副產(chǎn)物等的沉積。
進(jìn)一步,根據(jù)本發(fā)明的排氣管的其他基本特征是具有:在內(nèi)部具有排氣通路的內(nèi)筒、設(shè)置在該內(nèi)筒外側(cè)的外筒、在內(nèi)筒和外筒之間形成的密閉空間、以及在外筒中設(shè)置的、用于將液氮等極低溫冷卻介質(zhì)導(dǎo)入密封空間的冷卻介質(zhì)導(dǎo)入口。
在該排氣管中,通過將液氮等極低溫冷卻介質(zhì)供給密閉空間,冷卻內(nèi)筒內(nèi)表面,通過將氨氣、氬氣、氮?dú)獾葰怏w導(dǎo)入到該內(nèi)表面附近,使這些氣體凍結(jié)在內(nèi)表面上,排氣后,通過通過汽化該凍結(jié)氣體,可剝離在排氣中沉積的反應(yīng)副產(chǎn)物等。
附圖簡更說明
圖1是根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)施例的防止反應(yīng)副產(chǎn)物在排氣管內(nèi)沉積的裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖2是根據(jù)本發(fā)明第二實(shí)施例的防止反應(yīng)副產(chǎn)物在排氣管內(nèi)沉積的裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖3是根據(jù)本發(fā)明第三實(shí)施例的防止反應(yīng)副產(chǎn)物在排氣管內(nèi)沉積的裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖4是根據(jù)本發(fā)明第四實(shí)施例的防止反應(yīng)副產(chǎn)物在排氣管內(nèi)沉積的裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
以下,根據(jù)附圖說明本發(fā)明的實(shí)施例。
在圖1中,10是根據(jù)本發(fā)明一個實(shí)施例的排氣管,在該實(shí)施例中,該排氣管10的左端部(圖中未示出)連接到反應(yīng)真空室,右端部連接到真空泵(或者,設(shè)置在真空泵上游側(cè)上的圖中未示出的吸塵罩)。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態(tài)化合物分解且表面材料的反應(yīng)產(chǎn)物不留存于鍍層中的化學(xué)鍍覆,例如化學(xué)氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機(jī)材料為特征的
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