[發明專利]浮動塊、及磁盤裝置無效
| 申請號: | 01803349.0 | 申請日: | 2001-10-31 |
| 公開(公告)號: | CN1394340A | 公開(公告)日: | 2003-01-29 |
| 發明(設計)人: | 中北勝;上野善弘 | 申請(專利權)人: | 松下電器產業株式會社 |
| 主分類號: | G11B21/21 | 分類號: | G11B21/21;G11B5/60 |
| 代理公司: | 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 | 代理人: | 陳健 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 浮動 磁盤 裝置 | ||
1.一種浮動塊,具有磁頭和空氣潤滑面,該磁頭在與磁盤介質之間進行數據的記錄或者重放,該浮動塊通過在該空氣潤滑面與前述磁盤介質之間的空氣流浮在前述磁盤介質之上,其特征在于,在前述空氣潤滑面上,通過用相對于在浮動塊寬度方向上假想的橫軸具有θ(rad)后掠角的棱角線連結空氣流入側的棱角線與磁盤外周側的棱角線形成著凹部,將從前述空氣潤滑面的空氣流入端至該凹部的距離x以浮動塊的長度L進行基準化使X=x/L的情況下,該θ為
0.06×π/X<θ<0.12×π/X。
2.如權利要求1所述的浮動塊,其特征在于,具有前述后掠角θ的棱角線與通過浮動塊中心在浮動塊長度方向上假想的縱軸相比形成在磁盤外周側上。
3.如權利要求1所述的浮動塊,其特征在于,大約θ×X=0.09π。
4.一種浮動塊,具有磁頭和空氣潤滑面,該磁頭在與磁盤介質之間進行數據的記錄或者重放,該浮動塊通過在該空氣潤滑面與前述磁盤介質之間的空氣流浮在前述磁盤介質之上,其特征在于,在前述空氣潤滑面上,通過用相對于在浮動塊寬度方向上假想的橫軸具有η(rad)后掠角的棱角線連結空氣流入側的棱角線與磁盤外周側的棱角線形成著凹部,將從前述空氣潤滑面的空氣流入端至該凹部的距離x以浮動塊的長度L進行基準化使X=x/L的情況下,該η為
0.05×π/X<η<0.13×π/X。
5.如權利要求4所述的浮動塊,其特征在于,具有前述后掠角η的棱角線與通過浮動塊中心在浮動塊長度方向上假想的縱軸相比形成在磁盤內周側上。
6.如權利要求4所述的浮動塊,其特征在于,大約η×X=0.09π。
7.一種浮動塊,具有磁頭和空氣潤滑面,該磁頭在與磁盤介質之間進行數據的記錄或者重放,該浮動塊通過在該空氣潤滑面與前述磁盤介質之間的空氣流浮在前述磁盤介質之上,其特征在于,在前述空氣潤滑面上,通過用相對于在浮動塊寬度方向上假想的橫軸具有θ(rad)后掠角的棱角線連結空氣流入側的棱角線與磁盤外周側的棱角線、而且、通過用相對于在浮動塊寬度方向上假想的橫軸具有η(rad)后掠角的棱角線連結空氣流入側的棱角線與磁盤外周側的棱角線而形成著凹部,將從前述空氣潤滑面的空氣流入端至該凹部的距離x以浮動塊的長度L進行基準化使X=x/L的情況下,前述θ及前述η為
0.06×π/X<θ<0.12×π/X、
0.05×π/X<η<0.13×π/X。
8.如權利要求7所述的浮動塊,其特征在于,具有前述后掠角θ的棱角線與通過浮動塊中心在浮動塊長度方向上假想的縱軸相比形成在磁盤外周側上。
9.如權利要求7所述的浮動塊,其特征在于,大約θ×X=0.09π。
10.如權利要求7所述的浮動塊,其特征在于,具有前述后掠角η的棱角線與通過浮動塊中心在浮動塊長度方向上假想的縱軸相比形成在磁盤內周側上。
11.如權利要求7所述的浮動塊,其特征在于,大約η×X=0.09π。
12.一種浮動塊,具有磁頭和空氣潤滑面,該磁頭在與磁盤介質之間進行數據的記錄或者重放,該空氣潤滑面具有產生負壓的凹部,該浮動塊通過在該空氣潤滑面與前述磁盤介質之間的空氣流浮在前述磁盤介質之上,其特征在于,前述空氣潤滑面具有位于前述凹部的空氣流入端側、成為在該空氣潤滑面上最高的大致平面的空氣流入側襯墊,在通過浮動塊中心在浮動塊長度方向假想的縱軸與磁盤旋轉方向所成的斜交角在0(rad)位置時,將前述浮動塊與前述磁盤介質的相對速度設為V(mm/s),將前述空氣流入側襯墊與在該空氣流入側襯墊的空氣流入端側上形成的大致平面的層差設為d(mm),將從前述空氣流入端至空氣流入側襯墊的距離設為y(mm)的情況下,
V×(d/y)<1.5。
13.如權利要求12所述的浮動塊,其特征在于,V×(d/y)<1.0。
14.如權利要求12所述的浮動塊,其特征在于,在前述空氣流入側襯墊的空氣流入端側上形成的大致平面延伸至空氣流入端。
15.如權利要求12所述的浮動塊,其特征在于,前述空氣流入側襯墊包括在前述浮動塊的橫軸方向上延伸的橫向軌道。
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