[發明專利]浮動塊、及磁盤裝置

無效

• 申請號: 01803349.0
• 申請日: 2001-10-31
• 公開（公告）號: CN1394340A
• 公開（公告）日: 2003-01-29
• 發明（設計）人: 中北勝;上野善弘
• 申請（專利權）人: 松下電器產業株式會社
• 主分類號: G11B21/21
• 分類號: G11B21/21;G11B5/60
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所
• 代理人: 陳健

技術領域

本發明涉及浮動塊、及磁盤裝置，特別是涉及通過在空氣潤滑面和磁盤介質之間的空氣流而浮在磁盤介質上的浮動塊、及使用該浮動塊的磁盤裝置。

背景技術

近年，磁氣磁盤裝置的數據記錄密度的顯著提高，據稱該記錄密度的增加為年增長率150％。由于這種顯著的數據記錄密度的增加，磁氣磁盤裝置的數據記錄容量飛躍地提高。數據記錄容量的增加促進磁氣磁盤裝置的小型化，如代替在日本特開平8-249127號公報上被公開的照相機、傳真機、移動電話、調制解調器、傳呼機、手動計算裝置、打印機、復印機等的各種各樣的電子裝置的半導體存儲器的性能價格比高的產品變得實用起來。

今天的磁氣磁盤裝置為了得到快的存取速度具有類似錄音機的拾音器的旋轉型作動器。在該作動器臂的前端安裝著浮動塊。該浮動塊面對磁盤介質的面為空氣潤滑面，浮動塊將伴隨磁盤介質的旋轉發生的空氣流引入空氣潤滑面和磁盤介質表面之間，因而浮在磁盤介質上。即，浮動塊在與磁盤介質的記憶面之間形成·維持自身加壓式的空氣潤滑膜。因此，浮動塊相對于磁盤介質表面的浮動高度、即磁盤介質表面與浮動塊的距離是該空氣潤滑膜的高度。而且，通過該膜，在磁盤介質旋轉中浮動塊與磁盤介質不容易產生機械的接觸，抑制摩擦及磨損。

該浮動塊內藏著在磁盤介質上填寫數據、或從磁盤介質讀取數據的磁頭。一般的，磁頭配設在浮動塊的面對磁盤介質的空氣潤滑面的空氣流出端附近。

還有，如前所述通過使用旋轉型作動器，浮動塊與磁盤介質的滑動及浮動塊下的空氣流已經不只是一個方向，相對于浮動塊的縱軸(通過浮動塊的中心、在浮動塊或者作動器的長度方向上的假想軸)具有各種各樣的角度。再有，由于存取中的作動器高速的探索動作成為浮動塊和磁盤介質之間的滑動方向以及在浮動塊下流動的空氣流的方向相對于縱軸傾斜的原因，在近年的具有旋轉型作動器的磁氣磁盤裝置中，滑動方向已經不考慮浮動塊從前方向后方的縱軸方向、或者從該方向僅略微偏離程度的方向。

在此，對于浮動塊的縱軸磁盤介質的滑動方向的成角被稱作斜交角。滑動方向在作動器臂位于磁盤介質的外側的一端或者接觸外面時，斜交角為正，在作動器臂位于磁盤介質的內側的一端或者接觸輪轂時，斜交角為負。

在磁氣磁盤裝置中，伴隨著記錄密度的增加，進行記錄重放時的浮動塊的對于磁盤介質的上浮量有變小的傾向。該上浮量的下降如在專利第1505878號、專利第2778518號、專利第2803639號等上公開的那樣，以高度不同的多個大致平面形成浮動塊的空氣潤滑面，為了使浮動塊與磁盤介質之間的間隙變小在高處形成的大致平面上產生正壓(作用在使浮動塊遠離磁盤介質的方向的壓力)，為了使浮動塊與磁盤介質之間的間隙變大在低處形成的大致平面上產生負壓(作用在使浮動塊接近磁盤介質的方向的壓力)，通過使正壓和負壓平衡而使浮動塊浮起，通過所謂的負壓利用型浮動塊來達成。

如前所述，在磁氣磁盤裝置中進行數據存取時，浮動塊在從磁盤介質的內周到磁盤介質的外周的范圍內移動，這種情況下，浮動塊的上浮量及上浮姿勢將變動。這是因為在具有旋轉型作動器的磁氣磁盤裝置中，通過磁盤介質的半徑位置不僅使浮動塊與磁盤介質的相對速度變動，由于斜交角也一起變動，使在空氣潤滑面上產生的空氣的壓力分布發生變動。這樣的浮動塊的上浮量變動存在使磁頭的電磁變換功率惡化的問題。特別是在要求高記錄密度的磁氣磁盤裝置中，要求在從磁盤介質的內周直到外周的磁頭位置上的上浮量均等，再有，伴隨著浮動塊的低上浮量化，針對上浮量變動的限制也被進一步嚴格地要求。

還有，浮動塊上浮姿勢的變動，特別是浮動塊橫軸方向的傾側角的變動，對于在前述磁頭位置上被要求一定上浮的浮動塊，會招致在最小上浮量位置上的上浮量降低，浮動塊與磁盤介質相接觸，存在可能誘發所謂的磁頭碰撞的問題。

還有，在現在正在推進開發的使用直徑27mm等的小徑磁盤介質的磁氣磁盤裝置中，例如與使用直徑95mm或84mm的磁盤介質的磁氣磁盤裝置相比，由于浮動塊與磁盤介質的相對速度有很大的不同，通過空氣流不能充分得到上浮力，使維持一定的上浮量及維持一定的上浮姿勢更加困難，成為在開發小型磁氣磁盤裝置上的巨大的問題。

本發明是為了解決上述現有的問題所作的技術方案，其目的在于，通過抑制浮動塊的傾側角和上浮量的變動，提供一種能夠維持一定的上浮姿勢和一定的上浮量的浮動塊，以及使用該浮動塊的磁盤裝置。

發明內容