[發明專利]外觀檢查用投光裝置無效
| 申請號: | 01802520.X | 申請日: | 2001-08-23 |
| 公開(公告)號: | CN1388897A | 公開(公告)日: | 2003-01-01 |
| 發明(設計)人: | 今井伸明;西澤誠 | 申請(專利權)人: | 奧林巴斯光學工業株式會社 |
| 主分類號: | G01N21/84 | 分類號: | G01N21/84;G01M11/00 |
| 代理公司: | 永新專利商標代理有限公司 | 代理人: | 黃劍鋒 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 外觀 檢查 用投光 裝置 | ||
技術領域
本發明涉及用于液晶玻璃基板等大型基板的外觀檢查的外觀檢查用投光裝置。
背景技術
以往,為了將液晶顯示器的玻璃基板的質量保持在穩定的狀態,基板上的抗蝕劑等膜厚的不勻或ITO膜上的針孔等的外觀檢查、以及基板上被印刷的圖形的不齊或不勻、或基板表面上附著的灰塵或損傷等的外觀檢查是極其重要的。在這樣的基板的外觀檢查中,使用著披露于(日本)特開平5-232040號公報、特開平5-232032號公報、特開平9-273996號公報、特開2000-97864號公報中的外觀檢查用投光裝置。
圖7是表示披露于特開平5-232032號公報中的外觀檢查用投光裝置的概略結構的圖。在圖7所示的外觀檢查用投光裝置中,進行玻璃基板上的抗蝕劑等膜厚的不勻或ITO膜上的針孔等外觀檢查。
在光源101的背部中配置橢圓旋轉鏡102。來自光源101的照明光由橢圓旋轉鏡102反射,通過紅外線吸收濾光器103聚集在閘門104上。進而,照明光通過濾光器105入射到聚光用菲涅耳透鏡106上,被限制為平行光束。在由該聚光用菲涅耳透鏡106限制的平行光束中,將作為被檢查部件的玻璃基板107相對于光軸具有規定的角度來配置。
在構成這樣的結構的外觀檢查用投光裝置中,均勻地照明玻璃基板107的表面,觀察者108可以通過目視來觀察從玻璃基板107的表面產生的微小的散射光。由此,檢測出玻璃基板107上的抗蝕劑等膜厚的不勻、ITO膜上的針孔等缺陷部109。
圖8是表示披露于特開平5-232032號公報中的外觀檢查用投光裝置的概略結構的圖。在圖8中,對于與圖7相同的部分附以相同標號。在圖8所示的外觀檢查用投光裝置中,可進行在玻璃基板上印刷的圖形的不齊或不勻、或者基板表面上附著的灰塵或損傷等的外觀檢查。
在圖8中,除了圖7的結構以外,在由聚光用菲涅耳透鏡106限制的平行光束中,還配置投光用菲涅耳透鏡110。在該投光用菲涅耳透鏡110產生的光束的聚束位置A前面的光路中,將被檢查部件的玻璃基板107相對于光軸具有規定的角度來配置。
在構成這樣的結構的外觀檢查用投光裝置中,均勻地照明玻璃基板107的表面,觀察者108在從玻璃基板107的反射光的聚束位置S附近可以通過目視來觀察從玻璃基板107的表面產生的微小的散射光。由此,可檢測出在玻璃基板107上印刷的圖形不齊或不勻、或者玻璃基板107表面上附著的灰塵或損傷等缺陷部111。
但是,目前,液晶顯示器有日益大型化的趨勢。隨著這種趨勢,用于液晶顯示器的玻璃基板也被大型化,達到1000mm×1200mm的尺寸。
然而,即使構成上述結構的任何一個外觀檢查用投光裝置,在玻璃基板大型化時,也需要與該玻璃基板的尺寸同等以上的聚光用菲涅耳透鏡106或投光用菲涅耳透鏡110。因此,這些聚光用菲涅耳透鏡106或投光用菲涅耳透鏡110有日益大型化的趨勢。
在現有技術中,透鏡直徑增大到必要以上,制作上難以將透鏡性能保持一定,因此也難以均勻地照明在玻璃基板107上。因此,存在使大型基板的外觀檢查的可靠性下降的問題。而且,如果使用大型的聚光用菲涅耳透鏡106或投光用菲涅耳透鏡110,那么要不產生因自重造成的透鏡的撓曲變位,則難以安裝在裝置上,而且還產生避免不了裝置大型化這樣的問題。
本發明的目的在于提供一種小型的外觀檢查用投光裝置,對于大型的被檢查部件可以均勻地照明整體。
發明的內容
(1)本發明的外觀檢查用投光裝置包括:照明光源;反射光學系統,使來自該照明光源的光向被檢查部件反射;以及聚光光學系統,配置在該反射光學系統的反射光路上;其中,所述聚光光學系統至少被分成2個部分,通過來自這些被分割的各聚光光學系統的照明光束能夠照射所述被檢查部件的整個表面。
(2)本發明的外觀檢查用投光裝置是上述(1)所述的裝置,并且來自所述各聚光光學系統的照明光束分別照射所述被檢查部件的部分區域。
(3)本發明的外觀檢查用投光裝置是上述(1)所述的裝置,并且將所述照明光源和所述反射光學系統設置在所述各聚光光學系統中。
(4)本發明的外觀檢查用投光裝置是上述(1)所述的裝置,并且使所述各聚光光學系統的光軸在焦點附近交叉或集中。
(5)本發明的外觀檢查用投光裝置是上述(1)所述的裝置,并且將所述照明光源對每個多組的所述聚光光學系統公用設置。
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