[發明專利]生產四氫萘衍生物的方法有效
| 申請號: | 01142779.5 | 申請日: | 2001-10-19 |
| 公開(公告)號: | CN1356303A | 公開(公告)日: | 2002-07-03 |
| 發明(設計)人: | 齊藤佳孝;楠本哲生;竹原貞夫 | 申請(專利權)人: | 大日本油墨化學工業株式會社 |
| 主分類號: | C07C35/36 | 分類號: | C07C35/36;C07C35/48;C07C13/48;C07C29/136;C07C1/207 |
| 代理公司: | 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 | 代理人: | 黃淑輝 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 生產 四氫萘 衍生物 方法 | ||
??????????????????發明領域
本發明涉及生產可用作液晶化合物的2-取代-1,2,3,4-四氫萘-2-醇、2-取代-二氫萘和2-取代-1,2,3,4-四氫萘的方法。
???????????????????發明背景
2-取代-1,2,3,4-四氫萘結構已作為液晶材料報導。然而,由于其復雜的生產方法,除了特殊液晶材料,例如鐵電性液晶之外,它的應用幾乎不為人知,目前的狀況是它作為當前最頻繁使用的向列型液晶材料的應用幾乎未開展。作為得到1,2,3,4-四氫萘衍生物的方法,德國專利DE19652247A1公開了通過烷基化過程在5,7-二氟-1,2,3,4-四氫萘-1-酮的2-位上引入烷基的方法。(在該結構式中,Rx表示烷基和X表示鹵素原子。)
然而,該方法具有如下所述的許多問題。
1.由于在位于兩個氟原子之間位置上的氫原子的酸性大,使得可使用的堿受到限制。
2.作為使用的烷基化試劑,飽和直鏈烷基鹵化物不能提供實用性的收率,并且烷基鹵化物難以避免多次烷基化。
3.由于芳香鹵化物不能進行該反應,不能生產在2-位上帶有芳環的化合物。
因此,2-取代-1,2,3,4-四氫萘和它的衍生物是工業化困難的化合物,這些問題阻礙了它們的工業應用。
另一方面,未報導其中使1,2,3,4-四氫萘-2-酮與有機金屬試劑反應的生產方法,因為雖然它不導致上述問題,但在該核中所包含的羰基的酮-烯醇互變異構的異構體比率明顯傾向于烯醇形式,從而使得人們認為有機金屬試劑作為親核試劑的反應將不能進行。
??????????????????發明概述
本發明的目的是提供2-取狀-1,2,3,4-四氫萘-2-醇、2-取代-3,4-二氫萘和2-取代-1,2,3,4-四氫萘的高產率生產方法。
通過如下的描述,本發明的其它目的和效果將變得清楚。
本發明提供如下三種化合物的生產方法。
1.生產2-取代-1,2,3,4-四氫萘-2-醇的方法,其包括使1,2,3,4-四氫萘-2-酮與有機金屬試劑在溶劑中反應,所述溶劑含有按體積百分數計的30%或更大上數量的至少一種烴溶劑。
2.生產2-取代-3,4-二氫萘的方法,其包括使1,2,3,4-四氫萘-2-酮與有機金屬試劑在溶劑中反應,所述溶劑含有按體積百分數計的30%或更大數量的至少一種烴溶劑,和隨后進行由所形成的2-取代-1,2,3,4-四氫萘-2-醇的羥基的β-消除。
3.生產2-取代-1,2,3,4-四氫萘的方法,其包括使1,2,3,4-四氫萘-2-酮與有機金屬試劑在溶劑中反應,所述溶劑含有按體積百分數計的30%或更大數量的至少一種烴溶劑,隨后進行由所形成的2-取代-1,2,3,4-四氫萘-2-醇的羥基的β-消除和進行由此得到的2-取代-3,4-二氫萘的氫化。
與其中反應在質子惰性的極性溶劑,例如THF作為通常反應條件的情況相比,本發明的生產方法通過使起始物料與有機金屬試劑在含有按體積百分數計的30%或更大數量的至少一種烴溶劑的溶劑中反應,明顯改善了加成產物的產率,因此,它們作為生產四氫萘衍生物的方法是有效的。
?????????????????????發明的詳細描述
如下更詳細地描述本發明。
作為合格用于本發明的烴溶劑,可列舉脂族烴溶劑和芳香烴溶劑。更具體地說,甲苯、苯、二甲苯、戊烷、己烷、庚烷或環己烷是合乎需要的,且甲苯是更合乎需要的。根據本發明,對除烴體系之外的溶劑沒有特定限制,其前提是它不破壞本發明的目的,通常使用質子惰性的極性溶劑。然而,當除烴溶劑之外的溶劑的數量大時,感興趣的加成產物的收率降低。在這種情況下,可含有不破壞本發明效果的質子惰性的極性溶劑的數量按體積百分數計小于70%,必須含有至少30%的烴溶劑。在反應溶劑中所含有的烴溶劑的數量按體積百分數計優選50%或更大,更優選70%或更大。
當將格利雅試劑用作有機金屬試劑時,必需使用醚極性溶劑或胺溶劑,例如乙醚、四氫呋喃(THF)或二甘醇二甲醚作為質子惰性的極性溶劑來進行制備,從而這些溶劑變為用于本發明的除烴溶劑以外的溶劑主要組分。
反應溫度優選為0℃-60℃,更優選為20℃-30℃。
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